【图形】商标详情
- 图形
- 81363005
- 已初审
- 普通商标
- 2024-10-14
0101 , 0102 , 0103 , 0104 , 0106 0101-稀土,
0102-氧化铝,
0102-氮化合物,
0102-非金属氧化物,
0103-科学用放射性元素,
0104-制技术陶瓷用合成物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-烧结用颗粒状和粉状陶瓷物质,
0106-实验室分析用化学品（非医用、非兽医用）
0101-稀土;0102-氧化铝;0102-氮化合物;0102-非金属氧化物;0103-科学用放射性元素;0104-制技术陶瓷用合成物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-烧结用颗粒状和粉状陶瓷物质;0106-实验室分析用化学品（非医用、非兽医用） - 1917
- 2024-12-27
- 广东先导元创精密科技有限公司
- 广东省广州市************
- 北京集佳知识产权代理有限公司
2024-11-05 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-10-14 商标注册申请 | 申请收文
商标初步审定公告 2024-12-27 第1917期 查看公告
- 图形
- 81363005
- 已初审
- 普通商标
- 2024-10-14
0101 , 0102 , 0103 , 0104 , 0106 0101-稀土,
0102-氧化铝,
0102-氮化合物,
0102-非金属氧化物,
0103-科学用放射性元素,
0104-制技术陶瓷用合成物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-烧结用颗粒状和粉状陶瓷物质,
0106-实验室分析用化学品（非医用、非兽医用）
0101-稀土;0102-氧化铝;0102-氮化合物;0102-非金属氧化物;0103-科学用放射性元素;0104-制技术陶瓷用合成物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-烧结用颗粒状和粉状陶瓷物质;0106-实验室分析用化学品（非医用、非兽医用） - 1917
- 2024-12-27
- 广东先导元创精密科技有限公司
- 广东省广州市************
- 北京集佳知识产权代理有限公司
2024-11-05 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-10-14 商标注册申请 | 申请收文
商标初步审定公告 2024-12-27 第1917期 查看公告
