【QUST】商标详情
- QUST
- 76276432
- 待审中
- 普通商标
- 2024-01-09
0101 , 0104 , 0107 , 0108 , 0115 0101-半导体用硅,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0107-感光板,
0107-感光箔,
0108-离子交换树脂膜（化学制剂）,
0115-生产胶合板 用黏合剂
0101-半导体用硅;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0107-感光板;0107-感光箔;0108-离子交换树脂膜（化学制剂）;0115-生产胶合板用黏合剂 - 广州市唯康通信技术有限公司
- 广东省广州市************
- 广州骏思知识产权代理有限公司
2024-10-15 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 核准证明打印发送
2024-08-25 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2024-05-07 驳回复审 | 申请收文
2024-04-02 商标注册申请 | 驳回通知发文
2024-01-23 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-01-09 商标注册申请 | 申请收文
商标注册人/申请人名义及地址变更公告 2024-10-13 第1907期 查看公告
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0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0107-感光板,
0107-感光箔,
0108-离子交换树脂膜（化学制剂）,
0115-生产胶合板用黏合剂
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