【JPPV】商标详情
- JPPV
- 75753730
- 已注册
- 普通商标
- 2023-12-12
0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-太阳能电池用硅,
0101-工业硅,
0102-工业用无机盐,
0102-有机金属化合物,
0102-蓄电池硫酸,
0102-金属氧化物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用碳化硅
0101-半导体用硅;0101-太阳能电池用硅;0101-工业硅;0102-工业 用无机盐;0102-有机金属化合物;0102-蓄电池硫酸;0102-金属氧化物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用碳化硅 - 1879
- 2024-03-13
- 1891
- 2024-06-14
- 2024-06-14-2034-06-13
- 晶鹏能源(深圳)有限公司
- 广东省深圳市************
- 深圳市恒程创新知识产权代理有限公司
2024-07-10 商标注册申请 | 注册证发文
2024-01-03 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-12-12 商标注册申请 | 申请收文
- JPPV
- 75753730
- 已注册
- 普通商标
- 2023-12-12
0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-太阳能电池用硅,
0101-工业硅,
0102-工业用无机盐,
0102-有机金属化合物,
0102-蓄电池硫酸,
0102-金属氧化物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用碳化硅
0101-半导体用硅;0101-太阳能电池用硅;0101-工业硅;0102-工业用无机盐;0102-有机金属化合物;0102-蓄电池硫酸;0102-金属氧化物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用碳化硅 - 1879
- 2024-03-13
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- 2024-06-14
- 2024-06-14-2034-06-13
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- 广东省深圳市************
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2024-07-10 商标注册申请 | 注册证发文
2024-01-03 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-12-12 商标注册申请 | 申请收文