【XEE-TECH INSTRUMENTS】商标详情
- XEE-TECH INSTRUMENTS
- 85801984
- 已初审
- 普通商标
- 2025-06-10
0744 0744-制造用半导体曝光设备,
0744-半导体制造用光刻机,
0744-半导体制造设备,
0744-半导体晶片加工机,
0744-半导体晶片处理设备,
0744-电子元件制造设备,
0744-离子注入机,
0744-等离子刻蚀机,
0744-静电工业设备
0744-制造用半导体曝光设备;0744-半导体制造用光刻机;0744-半导体制造设备;0744-半导体晶片加工机;0744-半导体晶片处理设备;0744-电子元件制造设备;0744-离子注入机;0744-等离子刻蚀机;0744-静电工业设备 - 1956
- 2025-10-20
- 北京中科玄晔能源环境科技有限公司
- 北京市北京市************
- 邮寄办理
2025-06-27 商标注册申请 | 受理通知书发文
2025-06-10 商标注册申请 | 申请收文
商标初步审定公告 2025-10-20 第1956期 查看公告
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- 85801984
- 已初审
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- 2025-06-10
0744 0744-制造用半导体曝光设备,
0744-半导体制造用光刻机,
0744-半导体制造设备,
0744-半导体晶片加工机,
0744-半导体晶片处理设备,
0744-电子元件制造设备,
0744-离子注入机,
0744-等离子刻蚀机,
0744-静电工业设备
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- 2025-10-20
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