
【LSP CVD】商标详情

- LSP CVD
- G1205261
- 已注册
- 普通商标
- 2014-06-12
0744 0744-低气压化学气相沉积设备,
0744-半导体加工机器,
0744-生产半导体的原子层沉积设备,
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- 国际局
2023-12-26 国际续展 | 申请核准审核
2023-12-10 国际续展 | 申请收文
2015-01-21 领土延伸 | 审查
2014-06-12 领土延伸 | 申请收文
- LSP CVD
- G1205261
- 已注册
- 普通商标
- 2014-06-12
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- 国际局
2023-12-26 国际续展 | 申请核准审核
2023-12-10 国际续展 | 申请收文
2015-01-21 领土延伸 | 审查
2014-06-12 领土延伸 | 申请收文


