【BASELINER】商标详情
- BASELINER
- G1044103
- 已注册
- 普通商标
- 2010-08-12
4209 , 4214 , 4220 4209-与上述服务相关的咨询,
4209-用于电子、微光刻、集成电路、半导体、磁畴内存行业和集成光学系统行业的机器、设备和仪器方面的技术咨询(工程师服务),
4214-与上述服务相关的咨询,
4214-用于电子、微光刻、集成电路、半导体、磁畴内存行业和集成光学系统行业的机器、设备和仪器方面的技术咨询(工程师服务),
4220-与上述服务相关的咨询,
4220-用于电子、微光刻、集成电路、半导体、磁畴内存行业和集成光学系统行业以及用于光刻光罩的设计、测试和定制装配的计算机软件的设计、维护和开发,
4220-用于电子、微光刻、集成电路、半导体、磁畴内存行业和集成光学系统行业的机器、设备和仪器方面的技术咨询(工程师服务)
4209-与上述服务相关的咨询;4209-用于电子、微光刻、集成电路、半导体、磁畴内存行业和集成光学系统行业的机器、设备和仪器方面的技术咨询(工程师服务);4214-与上述服务相关的咨询;4214-用于电子、微光刻、集成电路、半导体、磁畴内存行业和集成光学系统行业的机器、设备和仪器方面的技术咨询(工程师服务);4220-与上述服务相关的咨询;4220-用于电子、微光刻、集成电路、半导体、磁畴内存行业和集成光学系统行业以及用于光刻光罩的设计、测试和定制装配的计算机软件的设计、维护和开发;4220-用于电子、微光刻、集成电路、半导体、磁畴内存行业和集成光学系统行业的机器、设备和仪器方面的技术咨询(工程师服务) - 2020-01-26-2030-01-26
- ASML NETHERLANDS B.V.
- 北布拉班特省费尔德霍芬************
- 国际局
2022-04-28 撤销连续三年停止使用注册商标 | 继续有效通知发文
2022-03-11 撤销连续三年停止使用注册商标 | 提供证明通知发文
2021-10-19 撤销连续三年停止使用注册商标 | 受理通知书发文
2021-08-11 撤销连续三年停止使用注册商标 | 申请收文
2020-02-28 国际续展 | 申请核准审核
2020-02-18 国际续展 | 申请收文
2011-04-01 商标注册申请 | 国际领土延伸完成
2011-04-01 领土延伸 | 审查
2010-08-12 商标注册申请 | 领土延伸中
2010-08-12 领土延伸 | 申请收文
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- 已注册
- 普通商标
- 2010-08-12
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4209-用于电子、微光刻、集成电路、半导体、磁畴内存行业和集成光学系统行业的机器、设备和仪器方面的技术咨询(工程师服务),
4214-与上述服务相关的咨询,
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4220-用于电子、微光刻、集成电路、半导体、磁畴内存行业和集成光学系统行业以及用于光刻光罩的设计、测试和定制装配的计算机软件的设计、维护和开发,
4220-用于电子、微光刻、集成电路、半导体、磁畴内存行业和集成光学系统行业的机器、设备和仪器方面的技术咨询(工程师服务)
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