【LIXON】商标详情
- LIXON
- 33033546
- 已注册
- 普通商标
- 2018-08-22
0104 , 0108 0104-光致抗蚀剂,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-去光材料,
0104-工业用化学品,
0108-未加工聚合树脂,
0108-离子交换树脂膜（化学制剂）,
0108-聚酰胺
0104-光致抗蚀剂;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-去光材料;0104-工业用化学品;0108-未加工聚合树脂;0108-离子交换树脂膜（化学制剂）;0108-聚酰胺 - 1635
- 2019-02-13
- 1647
- 2019-05-14
- 2019-05-14-2029-05-13
- JNC株式会社
- 东京都东京************
- 永新专利商标代理有限公司
2019-08-08 商标注册申请 | 注册证发文
2018-12-04 商标注册申请 | 受理通知书发文
2018-11-02 商标注册申请 | 等待补正回文
2018-10-16 商标注册申 请 | 补正通知发文
2018-08-22 商标注册申请 | 申请收文
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- 2018-08-22
0104 , 0108 0104-光致抗蚀剂,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-去光材料,
0104-工业用化学品,
0108-未加工聚合树脂,
0108-离子交换树脂膜（化学制剂）,
0108-聚酰胺
0104-光致抗蚀剂;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-去光材料;0104-工业用化学品;0108-未加工聚合树脂;0108-离子交换树脂膜（化学制剂）;0108-聚酰胺 - 1635
- 2019-02-13
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2018-12-04 商标注册申请 | 受理通知书发文
2018-11-02 商标注册申请 | 等待补正回文
2018-10-16 商标注册申请 | 补正通知发文
2018-08-22 商标注册申请 | 申请收文
