【VESTA】商标详情
- VESTA
- G1454770
- 已注册
- 普通商标
- 2019-03-07
0744 0744-半导体制造用光掩模,
0744-半导体制造用加工室,
0744-半导体制造用工艺模块,
0744-平板显示器制造用光掩模,
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0744-等离子蚀刻机
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- TOKYO ELECTRON LIMITED
- 东京都东京************
- 国际局
2019-05-07 领土延伸 | 审查
2019-03-07 商标注册申请 | 申请收文
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- G1454770
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0744 0744-半导体制造用光掩模,
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2019-03-07 商标注册申请 | 申请收文
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