
【东华科滤】商标详情

- 东华科滤
- 91910207
- 待审中
- 普通商标
- 2026-05-20
0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-工业硅,
0101-石墨烯,
0101-硅,
0101-纳米石墨烯,
0102-硅藻土,
0102-碳化硅(原材料),
0104-化学物质制过滤材料,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料
0101-半导体用硅;0101-工业硅;0101-石墨烯;0101-硅;0101-纳米石墨烯;0102-硅藻土;0102-碳化硅(原材料);0104-化学物质制过滤材料;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料 - 浙江东华纳米技术研究院有限公司
- 浙江省嘉兴市************
- 河南诚怿网络科技有限公司
2026-06-15 商标注册申请 | 受理通知书发文
2026-05-20 商标注册申请 | 申请收文
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0101-工业硅,
0101-石墨烯,
0101-硅,
0101-纳米石墨烯,
0102-硅藻土,
0102-碳化硅(原材料),
0104-化学物质制过滤材料,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料
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