【NITTA】商标详情
- NITTA
- 3784191
- 已注册
- 普通商标
- 2003-11-04
0302 , 0303 , 0304 0302-清洁制剂,
0303-化学机械抛光制剂,
0303-化学机械抛光垫,
0303-化学机械抛光用基材,
0303-化学机械抛光软膏,
0303-半导体晶片抛光用垫,
0303-半导体晶片抛光用基材,
0303-半导体晶片用抛光制剂,
0303-半导体晶片用抛光软膏,
0303-研磨抛光制剂,
0303-研磨抛光用垫,
0303-研磨抛光用软膏,
0304-砂布,
0304-研磨材料
0302-清洁制剂;0303-化学机械抛光制剂;0303-化学机械抛光垫;0303-化学机械抛光用基材;0303-化学机械抛光软膏;0303-半导体晶片抛光用垫;0303-半导体晶片抛光用基材;0303-半导体晶片用抛光制剂;0303-半导体晶片用抛光软膏;0303-研磨抛光制剂;0303-研磨抛光用垫;0303-研磨抛光用软膏;0304-砂布;0304-研磨材料 - 1120
- 2008-05-20
- 1132
- 2008-08-21
- 2018-08-21-2028-08-20
- 霓达株式会社
- 大阪大阪市************
- 中国专利代理(香港)有限公司
2018-09-03 商标续展 | 核准通知打印发送
2018-08-14 商标续展 | 等待打印受理通知书
2018-07-18 商标续展 | 申请收文
2008-09-08 商标注册申请 | 打印注册证
2007-04-24 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 打印受理通知
2007-03-22 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2006-02-20 驳回复审 | 打印受理通知
2006-01-27 驳回复审 | 补充材料收文
2005-12-08 驳回复审 | 申请收文
2005-11-23 商标注册申请 | 打印驳回通知
2003-11-28 商标注册申请 | 打印受理通知
2003-11-04 商标注册申请 | 申请收文
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- 3784191
- 已注册
- 普通商标
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0302 , 0303 , 0304 0302-清洁制剂,
0303-化学机械抛光制剂,
0303-化学机械抛光垫,
0303-化学机械抛光用基材,
0303-化学机械抛光软膏,
0303-半导体晶片抛光用垫,
0303-半导体晶片抛光用基材,
0303-半导体晶片用抛光制剂,
0303-半导体晶片用抛光软膏,
0303-研磨抛光制剂,
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0304-砂布,
0304-研磨材料
0302-清洁制剂;0303-化学机械抛光制剂;0303-化学机械抛光垫;0303-化学机械抛光用基材;0303-化学机械抛光软膏;0303-半导体晶片抛光用垫;0303-半导体晶片抛光用基材;0303-半导体晶片用抛光制剂;0303-半导体晶片用抛光软膏;0303-研磨抛光制剂;0303-研磨抛光用垫;0303-研磨抛光用软膏;0304-砂布;0304-研磨材料 - 1120
- 2008-05-20
- 1132
- 2008-08-21
- 2018-08-21-2028-08-20
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- 大阪大阪市************
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