
【应用材料】商标详情

- 应用材料
- 3431431
- 已驳回
- 普通商标
- 2003-01-10
0744 0744-制造电子机械用仪器液晶显示器的设备,
0744-化学蒸汽沉淀反应器(半导体晶片加工设备部件),
0744-半导体晶片加工设备,
0744-外延反应器(半导体晶片加工设备部件),
0744-物理蒸汽沉淀反应器(半导体晶片加工设备部件),
0744-电子机械和仪器用薄膜加工成型和制造设备,
0744-相关支撑架(半导体晶片加工设备部件),
0744-离子植入管(半导体晶片加工设备部件),
0744-等离子蚀刻器(半导体晶片加工设备部件)
0744-制造电子机械用仪器液晶显示器的设备;0744-化学蒸汽沉淀反应器(半导体晶片加工设备部件);0744-半导体晶片加工设备;0744-外延反应器(半导体晶片加工设备部件);0744-物理蒸汽沉淀反应器(半导体晶片加工设备部件);0744-电子机械和仪器用薄膜加工成型和制造设备;0744-相关支撑架(半导体晶片加工设备部件);0744-离子植入管(半导体晶片加工设备部件);0744-等离子蚀刻器(半导体晶片加工设备部件) - 应用材料有限公司
- 加利福尼亚圣克拉拉************
- 北京专商投资咨询服务有限公司
2007-12-10 商标注册申请 | 驳回复审完成
2007-07-09 驳回复审 | 补充材料收文
2004-08-11 驳回复审 | 打印受理通知
2004-07-23 驳回复审 | 补充材料收文
2004-02-20 商标注册申请 | 收到驳回复审申请或补充材料,待审
2004-02-20 商标注册申请 | 驳回复审中
2004-02-20 商标注册申请 | 驳回复审待审中
2004-02-20 驳回复审 | 申请收文
2004-02-03 商标注册申请 | 打印驳回或部分驳回通知书
2004-02-03 商标注册申请 | 打印驳回通知
2003-01-29 商标注册申请 | 打印受理通知
2003-01-10 商标注册申请 | 商标注册申请中
2003-01-10 商标注册申请 | 申请收文
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- 已驳回
- 普通商标
- 2003-01-10
0744 0744-制造电子机械用仪器液晶显示器的设备,
0744-化学蒸汽沉淀反应器(半导体晶片加工设备部件),
0744-半导体晶片加工设备,
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0744-离子植入管(半导体晶片加工设备部件),
0744-等离子蚀刻器(半导体晶片加工设备部件)
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2007-12-10 商标注册申请 | 驳回复审完成
2007-07-09 驳回复审 | 补充材料收文
2004-08-11 驳回复审 | 打印受理通知
2004-07-23 驳回复审 | 补充材料收文
2004-02-20 商标注册申请 | 收到驳回复审申请或补充材料,待审
2004-02-20 商标注册申请 | 驳回复审中
2004-02-20 商标注册申请 | 驳回复审待审中
2004-02-20 驳回复审 | 申请收文
2004-02-03 商标注册申请 | 打印驳回或部分驳回通知书
2004-02-03 商标注册申请 | 打印驳回通知
2003-01-29 商标注册申请 | 打印受理通知
2003-01-10 商标注册申请 | 商标注册申请中
2003-01-10 商标注册申请 | 申请收文
