【HEGAS】商标详情
- HEGAS
- 15461129
- 已注册
- 普通商标
- 2014-10-08
0744 , 0752 0744-用于生产半导体装置的化学机械抛光装置（电子工业设备）,
0744-用于生产半导体装置的化学气相沉积装置（电子工业设备）,
0744-用于生产半导体装置的曝光装置（电子工业设备）,
0744-用于生产半导体装置的蚀刻装置（电子工业设备）,
0752-用于生产半导体装置的废气处理装置（电子工业设备）
0744-用于生产半导体装置的化学机械抛光 装置（电子工业设备）;0744-用于生产半导体装置的化学气相沉积装置（电子工业设备）;0744-用于生产半导体装置的曝光装置（电子工业设备）;0744-用于生产半导体装置的蚀刻装置（电子工业设备）;0752-用于生产半导体装置的废气处理装置（电子工业设备） - 1468
- 2015-08-20
- 1480
- 2015-11-21
- 2015-11-21-2025-11-20
- 尤内森株式会社
- 京畿道华城市************
- 北京润平知识产权代理有限公司
2025-01-16 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2016-04-27 商标注册申请 | 商标注册申请完成
2016-04-27 商标注册申请 | 注册证发文
2015-11-23 商标注册申请 | 商标注册申请注册公告排版完成
2015-03-26 商标注册申请 | 受理通知书发文
2015-03-26 商标注册申请 | 商标注册申请受理通知书发文
2015-02-27 商标注册申请 | 等待补正回文
2015-02-27 商标注册申请 | 补正回文
2015-01-30 商标注册申请 | 补正通知发文
2014-10-08 商标注册申请 | 商标注册申请中
2014-10-08 商标注册申请 | 申请收文
- HEGAS
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- 2014-10-08
0744 , 0752 0744-用于 生产半导体装置的化学机械抛光装置（电子工业设备）,
0744-用于生产半导体装置的化学气相沉积装置（电子工业设备）,
0744-用于生产半导体装置的曝光装置（电子工业设备）,
0744-用于生产半导体装置的蚀刻装置（电子工业设备）,
0752-用于生产半导体装置的废气处理装置（电子工业设备）
0744-用于生产半导体装置的化学机械抛光装置（电子工业设备）;0744-用于生产半导体装置的化学气相沉积装置（电子工业设备）;0744-用于生产半导体装置的曝光装置（电子工业设备）;0744-用于生产半导体装置的蚀刻装置（电子工业设备）;0752-用于生产半导体装置的废气处理装置（电子工业设备） - 1468
- 2015-08-20
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