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- 81616070
- 待审中
- 普通商标
- 2024-10-28
0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-太阳能电池用硅,
0101-工业用固态气体,
0101-工业硅,
0101-石墨烯,
0102-碳化硅（原材料）,
0102-磷酸铁锂,
0102-表面活性剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料
0101-半导体用硅;0101-太阳能电池用硅;0101-工业用固态气体;0101-工业硅;0101-石墨烯;0102-碳化硅（原材料）;0102-磷酸铁锂;0102-表面活性剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料 - 拉普拉斯新能源科技股份有限公司
- 广东省深圳市************
- 超凡知识产权服务股份有限公司
2024-11-22 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-10-28 商标注册申请 | 申请收文
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0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料
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