【CQAOS】商标详情
- CQAOS
- 79957577
- 已注册
- 普通商标
- 2024-07-23
0101 , 0103 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-工业用固态气体,
0101-工业用氨,
0101-工业硅,
0101-结晶硅,
0103-科学用放射性元素,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-活性炭,
0104-金属加工用除油以外的介电流体（化学制剂）
0101-半导体用硅;0101-工业用固态气体;0101-工业用氨;0101-工业硅;0101-结晶硅;0103-科学用放射性元素;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-活性炭;0104-金属加工用除油以外的介电流体（化学制剂） - 1909
- 2024-10-27
- 1921
- 2025-01-28
- 2025-01-28-2035-01-27
- 重庆万国半导体科技有限公司
- 重庆市重庆市************
- 重庆乐泰知识产权代理事务所（普通合伙）
2024-08-06 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-07-23 商标注册申请 | 申请收文
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- 已 注册
- 普通商标
- 2024-07-23
0101 , 0103 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-工业用固态气体,
0101-工业用氨,
0101-工业硅,
0101-结晶硅,
0103-科学用放射性元素,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-活性炭,
0104-金属加工用除油以外的介电流体（化学制剂）
0101-半导体用硅;0101-工业用固态气体;0101-工业用氨;0101-工业硅;0101-结晶硅;0103-科学用放射性元素;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-活性炭;0104-金属加工用除油以外的介电流体（化学制剂） - 1909
- 2024-10-27
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- 2025-01-28
- 2025-01-28-2035-01-27
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2024-08-06 商标注册申请 | 受理通知书发文
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