【华宏 HH】商标详情
- 华宏 HH
- 13566326
- 已注册
- 普通商标
- 2013-11-19
0101 , 0102 , 0103 , 0104 , 0105 , 0106 , 0107 , 0108 , 0114 0101-一氧化氮,
0102-硝酸,
0103-原子堆燃料,
0104-烧结用颗粒状和粉状陶瓷物质,
0104-陶瓷釉,
0105-赤霉素,
0106-化学试纸,
0107-摄影用还原剂,
0108-三甲酚磷酸脂,
0114-上浆剂
0101-一氧化氮;0102-硝酸;0103-原子堆燃料;0104-烧结用颗粒状和粉状陶瓷物质;0104-陶瓷釉;0105-赤霉素;0106-化学试纸;0107-摄影用还原剂;0108-三甲酚磷酸脂;0114-上浆剂 - 1440
- 2015-01-20
- 1452
- 2015-04-21
- 2015-04-21-2025-04-20
- 淄博博山华宏瓷珠厂
- 山东省淄博市************
- 北京华商动力知识产权代理有限公司（停止经营）
2015-06-05 商标注册申请 | 注册证发文
2015-06-05 商标注册申请 | 等待注册证发文
2013-12-04 商标注册申请 | 打印受理通知
2013-11-19 商标注册申请 | 申请收文
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- 13566326
- 已注册
- 普通商标
- 2013-11-19
0101 , 0102 , 0103 , 0104 , 0105 , 0106 , 0107 , 0108 , 0114 0101-一氧化氮,
0102-硝酸,
0103-原子堆燃料,
0104-烧结用颗粒状和粉状陶瓷物质,
0104-陶瓷釉,
0105-赤霉素,
0106-化学试纸,
0107-摄影用还原剂,
0108-三甲酚磷酸脂,
0114-上浆剂
0101-一氧化氮;0102-硝酸;0103-原子堆燃料;0104-烧结用颗粒状和粉状陶瓷物质;0104-陶瓷釉;0105-赤霉素;0106-化学试纸;0107-摄影用还原剂;0108-三甲酚磷酸脂;0114-上浆剂 - 1440
- 2015-01-20
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- 2015-04-21-2025-04-20
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