【图形】商标详情
- 图形
- 88899697
- 已初审
- 普通商标
- 2025-12-01
0101 , 0102 , 0104 0101-工业用二氧化碳,
0101-液体二氧化碳,
0102-去离子水,
0102-工业用贵金属盐,
0102-工业用金属氧化物粉末,
0102-硫酸铜（蓝矾）,
0102-碳酸铜,
0102-表面活性剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄 膜用化工原料,
0104-印刷电路制造用化学氧化剂
0101-工业用二氧化碳;0101-液体二氧化碳;0102-去离子水;0102-工业用贵金属盐;0102-工业用金属氧化物粉末;0102-硫酸铜（蓝矾）;0102-碳酸铜;0102-表面活性剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路制造用化学氧化剂 - 1972
- 2026-02-20
- 贵溪市众安铜业有限公司
- 江西省鹰潭市贵溪市经济开发区铜产业循环基地片区十八号路以南、九号路以西
- 郑州留白印记企业服务有限公司
2026-01-05 商标注册申请 | 受理通知书发文
2025-12-01 商标注册申请 | 申请收文
商标初步审定公告 2026-02-20 第1972期 查看公告
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0101 , 0102 , 0104 0101-工业用二氧化碳,
0101-液体二氧化碳,
0102-去离子水,
0102-工业用贵金属盐,
0102-工业用金属氧化物粉末,
0102-硫酸铜（蓝矾）,
0102-碳酸铜,
0102-表面活性剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路制造用化学氧化剂
0101-工业用二氧化碳;0101-液体二氧化碳;0102-去离子水;0102-工业用贵金属盐;0102-工业用金属氧化物粉末;0102-硫酸铜（蓝矾）;0102-碳酸铜;0102-表面活性剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路制造用化学氧化剂 - 1972
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