【LOH】商标详情
- LOH
- G849444
- 已注册
- 普通商标
- 2005-06-21
0302 , 0303 , 0304 0302-光学制品生产的机械所使用的清洁制剂,
0302-用于光学制品的清洁制剂和浓缩制剂，以及添加剂尤其是用于超声波清洁机械和清洁装置,
0302-用于液体研磨制剂，抛光制剂，擦亮制剂，冷却制剂，以及冷却润滑剂的循环装置和供应装置的系统清洁制剂,
0303-擦亮制剂和浓缩剂,
0303-液体的抛光制剂和浓缩剂,
0303-液体的研磨制剂和浓缩剂,
0303-用于制作使用松散研磨剂来加工特别是光学制品的、液体研磨泥浆，抛光泥浆，以及擦亮泥浆所使用的粉状形式的研磨剂，抛光制剂，以及擦亮制剂,
0303-用于液体研磨制剂，抛光制剂，擦亮制剂，冷却制剂，以及冷却润滑剂的循环装置和供应装置的系统清洁制剂,
0304-用于制作使用松散研磨剂来加工特别是光学制品的、液体研磨泥浆，抛光泥浆，以及擦亮泥浆所使用的粉状形式的研磨剂，抛光制剂，以及擦亮制剂,
0304-用于液体研磨制剂，抛光制剂，擦亮制剂，冷却制剂，以及冷却润滑剂的循环装置和供应装置的系统清洁制剂
0302-光学制品生产的机械所使用的清洁制剂;0302-用于光学制品的清洁制剂和浓缩制剂，以及添加剂尤其是用于超声波清洁机械和清洁装置;0302-用于液体研磨制剂，抛光制剂，擦亮制剂，冷却制剂，以及冷却润滑剂的循环装置和供应装置的系统清洁制剂;0303-擦亮制剂和浓缩剂;0303-液体的抛光制剂和浓缩剂;0303-液体的研磨制剂和浓缩剂;0303-用于制作使用松散研磨剂来加工特别是光学制品的、液体研磨泥浆，抛光泥浆，以及擦亮泥浆所使用的粉状形式的研磨剂，抛光制剂，以及擦亮制剂;0303-用于液体研磨制剂，抛光制剂，擦亮制剂，冷却制剂，以及冷却润滑剂的循环装置和供应装置的系统清洁制剂;0304-用于制作使用松散研磨剂来加工特别是光学制品的、液体研磨泥浆，抛光泥浆，以及擦亮泥浆所使用的粉状形式的研磨剂，抛光制剂，以及擦亮制剂;0304-用于液体研磨制剂，抛光制剂，擦亮制剂，冷却制剂，以及冷却润滑剂的循环装置和供应装置的 系统清洁制剂 - 2024-01-30-2034-01-30
- Satisloh AG
- 楚格州巴阿************
- 国际局
2024-03-14 国际续展 | 申请核准审核
2024-03-03 国际续展 | 申请收文
2023-10-25 国际转让 | 申请核准审核
2023-10-09 国际转让 | 申请收文
2019-04-16 撤销连续三年停止使用注册商标 | 申请收文
2019-02-18 撤销连续三年停止使用注册商标 | 申请收文
2015-03-25 国际续展 | 申请核准审核
2014-08-03 国际续展 | 申请收文
2006-01-05 商标注册申请 | 国际领土延伸完成
2006-01-05 领土延伸 | 审查
2005-11-14 国际更正 | 申请核准审核
2005-08-26 商标注册申请 | 国际更正中
2005-06-21 领土延伸 | 申请收文
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0302 , 0303 , 0304 0302-光学制品生产的机械所使用的清洁制剂,
0302-用于光学制品的清洁制剂和浓缩制剂，以及添加剂尤其是用于超声波清洁机械和清洁装置,
0302-用于液体研磨制剂，抛光制剂，擦亮制剂，冷却制剂，以及冷却润滑剂的循环装置和供应装置的系统清洁制剂,
0303-擦亮制剂和浓缩剂,
0303-液体的抛光制剂和浓缩剂,
0303-液体的研磨制剂和浓缩剂,
0303-用于制作使用松散研磨剂来加工特别是光学制品的、液体研磨泥浆，抛光泥浆，以及擦亮泥浆所使用的粉状形式的研磨剂，抛光制剂，以及擦亮制剂,
0303-用于液体研磨制剂，抛光制剂，擦亮制剂，冷却制剂，以及冷却润滑剂的循环装置和供应装置的系统清洁制剂,
0304-用于制作使用松散研磨剂来加工特别是光学制品的、液体研磨泥浆，抛光泥浆，以及擦亮泥浆所使用的粉状形式的研磨剂，抛光制剂，以及擦亮制剂,
0304-用于液体研磨制剂，抛光制剂，擦亮制剂，冷却制剂，以及冷却润滑剂的循环装置和供应装置的系统清洁制剂
0302-光学制品生产的机械所使用的清洁制剂;0302-用于光学制品的清洁制剂和浓缩制剂，以及添加剂尤其是用于超声波清洁机械和清洁装置;0302-用于液体研磨制剂，抛光制剂，擦亮制剂，冷却制剂，以及冷却润滑剂的循环装置和供应装置的系统清洁制剂;0303-擦亮制剂和浓缩剂;0303-液体的抛光制剂和浓缩剂;0303-液体的研磨制剂和浓缩剂;0303-用于制作使用松散研磨剂来加工特别是光学制品的、液体研磨泥浆，抛光泥浆，以及擦亮泥浆所使用的粉状形式的研磨剂，抛光制剂，以及擦亮制剂;0303-用于液体研磨制剂，抛光制剂，擦亮制剂，冷却制剂，以及冷却润滑剂的循环装置和供应装置的系统清洁制剂;0304-用于制作使用松散研磨剂来加工特别是光学制品的、液体研磨泥浆，抛光泥浆，以及擦亮泥浆所使用的粉状形式的研磨剂，抛光制剂，以及擦亮制剂;0304-用于液体研磨制剂，抛光制剂，擦亮制剂，冷却制剂，以及冷却润滑剂的循环装置和供应装 置的系统清洁制剂 - 2024-01-30-2034-01-30
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