
【CENTROTHERM】商标详情

- CENTROTHERM
- G1458171
- 待审中
- 普通商标
- 2019-03-28
0706 , 0707 , 0717 , 0729 , 0730 , 0734 , 0742 , 0744 , 0750 , 0751 0706-用于加工半导体、纤维和其他基板的机器,
0706-用于热处理或制造过程的装置和设备,即涂布机、氧化或退火系统、真空焊接、化学气相沉积机器,
0707-用于热处理或制造过程的装置和设备,即涂布机、氧化或退火系统 、真空焊接、化学气相沉积机器,
0717-用于加工太阳能电池的机器,
0729-原子层沉积用机器,
0729-用于热处理或制造过程的装置和设备,即涂布机、氧化或退火系统、真空焊接、化学气相沉积机器,
0730-原子层沉积用机器,
0734-运输用机械(大气或负压或预定气体环境下),
0742-用于热处理或制造过程的装置和设备,即涂布机、氧化或退火系统、真空焊接、化学气相沉积机器,
0744-基于辐射的快速加热系统,包括机器和基于等离子体的机器及其组合,即用于表面和基板热处理的机器,
0744-用于加工半导体、纤维和其他基板的机器,
0744-用于真空(所谓的化学气相沉积法)或大气或暴露于等离子体下蒸发或涂覆半导体表面的机器,
0744-用于蚀刻半导体表面的机器,
0750-基于辐射的快速加热系统,包括机器和基于等离子体的机器及其组合,即用于表面和基板热处理的机器,
0751-用于热处理或制造过程的装置和设备,即涂布机、氧化或退火系统、真空焊接、化学气相沉积机器
0706-用于加工半导体、纤维和其他基板的机器;0706-用于热处理或制造过程的装置和设备,即涂布机、氧化或退火系统、真空焊接、化学气相沉积机器;0707-用于热处理或制造过程的装置和设备,即涂布机、氧化或退火系统、真空 焊接、化学气相沉积机器;0717-用于加工太阳能电池的机器;0729-原子层沉积用机器;0729-用于热处理或制造过程的装置和设备,即涂布机、氧化或退火系统、真空焊接、化学气相沉积机器;0730-原子层沉积用机器;0734-运输用机械(大气或负压或预定气体环境下);0742-用于热处理或制造过程的装置和设备,即涂布机、氧化或退火系统、真空焊接、化学气相沉积机器;0744-基于辐射的快速加热系统,包括机器和基于等离子体的机器及其组合,即用于表面和基板热处理的机器;0744-用于加工半导体、纤维和其他基板的机器;0744-用于真空(所谓的化学气相沉积法)或大气或暴露于等离子体下蒸发或涂覆半导体表面的机器;0744-用于蚀刻半导体表面的机器;0750-基于辐射的快速加热系统,包括机器和基于等离子体的机器及其组合,即用于表面和基板热处理的机器;0751-用于热处理或制造过程的装置和设备,即涂布机、氧化或退火系统、真空焊接、化学气相沉积机器 - 2018-10-30-2028-10-30
- CENTROTHERM INTERNATIONAL AG
- 巴登-符腾堡布劳博伊伦************
- 国际局
2020-03-24 驳回复审 | 实审裁文发文
2020-03-24 驳回复审 | 等待实审裁文发文
2019-07-16 驳回复审 | 申请收文
2019-06-26 领土延伸 | 等待驳回电子发文
2019-06-26 领土延伸 | 驳回电子发文
2019-03-28 商标注册申请 | 申请收文
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0706 , 0707 , 0717 , 0729 , 0730 , 0734 , 0742 , 0744 , 0750 , 0751 0706-用于加工半导体、纤维和其他基板的机器,
0706-用于热处理或制造过程的装置和设备,即涂布机、氧化或退火系统、真空焊接、化学气相沉积机器,
0707-用于热处理或制造过程的装置和设备,即涂布机、氧化或退火系统、真空焊接、化学气相沉积机器,
0717-用于加工太阳能电池的机器,
0729-原子层沉积用机器,
0729-用于热处理或制造过程的装置和设备,即涂布机、氧化或退火系统、真空焊接、化学气相沉积机器,
0730-原子层沉积用机器,
0734-运输用机械(大气或负压或预定气体环境下),
0742-用于热处理或制造过程的装置和设备,即涂布机、氧化或退火系统、真空焊接、化学气相沉积机器,
0744-基于辐射的快速加热系统,包括机器和基于等离子体的机器及其组合,即用于表面和基板热处理的机器,
0744-用于加工半导体、纤维和其他基板的机器,
0744-用于真空(所谓的化学气相沉积法)或大气或暴露于等离子体下蒸发或涂覆半导体表面的机器,
0744-用于蚀刻半导体表面的机器,
0750-基于辐射的快速加热系统,包括机器和基于等离子体的机器及其组合,即用于表面和基板热处理的机器,
0751-用于热处理或制造过程的装置和设备,即涂布机、氧化或退火系统、真空焊接、化学气相沉积机器
0706-用于加工半导体、纤维和其他基板的机器;0706-用于热处理或制造过程的装置和设备,即涂布机、氧化或退火系统、真空焊接、化学气相沉积机器;0707-用于热处理或制造过程的装置和设备,即涂布机、氧化或退火系统、真空焊接、化学气相沉积机器;0717-用于加工太阳能电池的机器;0729-原子层沉积用机器;0729-用于热处理或制造过程的装置和设备,即涂布机、氧化或退火系统、真空焊接、化学气相沉积机器;0730-原子层沉积用机器;0734-运输用机械(大气或负压或预定气体环境下);0742-用于热处理或制造过程的装置和设备,即涂布机、氧化或退火系统、真空焊接、化学气相沉积机器;0744-基于辐射的快速加热系统,包括机器和基于等离子体的机器及其组合,即用于表面和基板热处理的机器;0744-用于加工半导体、纤维和其他基板的机器;0744-用于真空(所谓的化学气相沉积法)或大气或暴露于等离子体下蒸发或涂覆半导体表面的机器;0744-用于蚀刻半导体表面的机器;0750-基于辐射的快速加热系统,包括机器和基于等离子体的机器及其组合,即用于表面和基板热处理的机器;0751-用于热处理或制造过程的装置和设备,即涂布机、氧化或退火系统、真空焊接、化学气相沉积机器 - 2018-10-30-2028-10-30
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2020-03-24 驳回复审 | 实审裁文发文
2020-03-24 驳回复审 | 等待实审裁文发文
2019-07-16 驳回复审 | 申请收文
2019-06-26 领土延伸 | 等待驳回电子发文
2019-06-26 领土延伸 | 驳回电子发文
2019-03-28 商标注册申请 | 申请收文
2019-03-28 领土延伸 | 申请收文
