【CENTROTHERM】商标详情
- CENTROTHERM
- G1205425
- 已注册
- 普通商标
- 2014-06-12
0716 , 0717 , 0730 , 0734 , 0744 , 0752 0716-半导体表面的蚀刻机器,
0717-用于半导体和太阳能电池加工的机器,
0730-用于原子层沉积(ALD)的机器,
0734-输送机器(在大气中或者亚大气压下或者预定义的气体氛围下),
0744-用于半导体的热加工和真空状态下加工的机器,
0744-用于半导体表面的沉积或者涂层、真空状态下(所谓的CVD工艺)或者在大气中或者在等离子体效果的机器,
0744-用 于表面和物体的热加工机器,即,基于辐射的快速加热系统,包括机器和基于等离子体的机器以及上述的组合机器,
0752-废气回收机器
0716-半导体表面的蚀刻机器;0717-用于半导体和太阳能电池加工的机器;0730-用于原子层沉积(ALD)的机器;0734-输送机器(在大气中或者亚大气压下或者预定义的气体氛围下);0744-用于半导体的热加工和真空状态下加工的机器;0744-用于半导体表面的沉积或者涂层、真空状态下(所谓的CVD工艺)或者在大气中或者在等离子体效果的机器;0744-用于表面和物体的热加工机器,即,基于辐射的快速加热系统,包括机器和基于等离子体的机器以及上述的组合机器;0752-废气回收机器 - 2024-01-27-2034-01-27
- centrotherm international AG
- 巴登-符腾堡布劳博伊伦************
2024-03-18 国际续展 | 申请核准审核
2024-02-27 国际续展 | 申请收文
2015-01-21 领土延伸 | 审查
2014-06-12 领土延伸 | 申请收文
- CENTROTHERM
- G1205425
- 已注册
- 普通商标
- 2014-06-12
0716 , 0717 , 0730 , 0734 , 0744 , 0752 0716-半导体表面的蚀刻机器,
0717-用于半导体和太阳能电池加工的机器,
0730-用于原子层沉积(ALD)的机器,
0734-输送机器(在大气中或者亚大气压下或者预定义的气体氛围下),
0744-用于半导体的热加工和真空状态下加工的机器,
0744-用于半导体表面的沉积或者涂层、真空状态下(所谓的CVD工艺)或者在大气中或者在等离子体效果的机器,
0744-用于表面和物体的热加工机器,即,基于辐射的快速加热系统,包括机器和基于等离子体的机器以及上述的组合机器,
0752-废气回收机器
0716-半导体表面的蚀刻机器;0717-用于半导体和太阳能电池加工的机器;0730-用于原子层沉积(ALD)的机器;0734-输送机器(在大气中或者亚大气压下或者预定义的气体氛围下);0744-用于半导体的热加工和真空状态下加工的机器;0744-用于半导体表面的沉积或者涂层、真空状态下(所谓的CVD工艺)或者在大气中或者在等离子体效果的机器;0744-用于表面和物体的热加工机器,即,基 于辐射的快速加热系统,包括机器和基于等离子体的机器以及上述的组合机器;0752-废气回收机器 - 2024-01-27-2034-01-27
- centrotherm international AG
- 巴登-符腾堡布劳博伊伦************
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2024-02-27 国际续展 | 申请收文
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