【ARF】商标详情
- ARF
- 79246990
- 待审中
- 普通商标
- 2024-06-17
0104 , 0107 -半导体制造中使用的化学品,
0104-光致抗蚀剂,
0104-制漆用化学品,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-和研磨剂配用的辅助液,
0104-工业用亮色化学品,
0104-工业用洗净剂,
0104-工业用软化剂,
0104-漂洗剂,
0104-电镀制剂,
0104-耐酸化学物质,
0104-腐蚀剂,
0104-非家用抗静电剂,
0107-摄影用化学制剂,
0107-摄影用感光剂,
0107-摄影用显影剂,
0107-照片显影用化学合成物
-半导体制造中使用的化学品;0104-光致抗蚀剂;0104-制漆用化学品;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-和研磨剂配用的辅助液;0104-工业用亮色化学品;0104-工业用洗净剂;0104-工业用软化剂;0104-漂洗剂;0104-电镀制剂;0104-耐酸化学物质;0104-腐蚀剂;0104-非家用抗静电剂;0107-摄影用化学制剂;0107-摄影用感光剂;0107-摄影用显影剂;0107-照片显影用化学合成物 - 捷时雅株式会社
- 东京都东京************
- 霍金路伟(上海)知识产权代理有限公司
2024-10-27 驳回复审 | 申请收文
2024-09-28 商标注册申请 | 驳回通知发文
2024-09-06 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-07-12 商标注册申请 | 补正通知发文
2024-06-17 商标注册申请 | 申请收文
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0104-光致抗蚀剂,
0104-制漆用化学品,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-和研磨剂配用的辅助液,
0104-工业用亮色化学品,
0104-工业用洗净剂,
0104-工业用软化剂,
0104-漂洗剂,
0104-电镀制剂,
0104-耐酸化学物质,
0104-腐蚀剂,
0104-非家用抗静电剂,
0107-摄影用化学制剂,
0107-摄影用感光剂,
0107-摄影用显影剂,
0107-照片显影用化学合成物
-半导体制造中使用的化学品;0104-光致抗蚀剂;0104-制漆用化学品;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-和研磨剂配用的辅助液;0104-工业用亮色化学品;0104-工业用洗净剂;0104-工业用软化剂;0104-漂洗剂;0104-电镀制剂;0104-耐酸化学物质;0104-腐蚀剂;0104-非家用抗静电剂;0107-摄影用化学制剂;0107-摄影用感光剂;0107-摄影用显影剂;0107-照片显影用化学合成物 - 捷时雅株式会社
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