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【ARF AEX】商标详情
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- ARF AEX
- 79263719
- 已注册
- 普通商标
- 2024-06-17
0104 , 0107 -半导体制造中使用的化学品,
0104-光致抗蚀剂,
0104-制漆用化学品,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-和研磨剂配用的辅助液,
0104-工业用亮色化学品,
0104-工业用洗净剂,
0104-工业用软化剂,
0104-漂洗剂,
0104-电镀制剂,
0104-耐酸化学物质,
0104-腐蚀剂,
0104-非家用抗静电剂,
0107-摄影用化学制剂,
0107-摄影用感光剂,
0107-摄影用显影剂,
0107-照片显影用化学合成物
-半导体制造中使用的化学品;0104-光致抗蚀剂;0104-制漆用化学品;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-和研磨剂配用的辅助液;0104-工业用亮色化学品;0104-工业用洗净剂;0104-工业用软化剂;0104-漂洗剂;0104-电镀制剂;0104-耐酸化学物质;0104-腐蚀剂;0104-非家用抗静电剂;0107-摄影用化学制剂;0107-摄影用感光剂;0107-摄影用显影剂;0107-照片显影用化学合成物 - 1905
- 2024-09-27
- 1917
- 2024-12-28
- 2024-12-28-2034-12-27
- 捷时雅株式会社
- 东京都东京************
- 霍金路伟(上海)知识产权代理有限公司
2025-01-21 商标注册申请 | 注册证发文
2024-08-27 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-07-13 商标注册申请 | 补正通知发文
2024-06-17 商标注册申请 | 申请收文
- ARF AEX
- 79263719
- 已注册
- 普通商标
- 2024-06-17
0104 , 0107 -半导体制造中使用的化学品,
0104-光致抗蚀剂,
0104- 制漆用化学品,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-和研磨剂配用的辅助液,
0104-工业用亮色化学品,
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0104-电镀制剂,
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0104-腐蚀剂,
0104-非家用抗静电剂,
0107-摄影用化学制剂,
0107-摄影用感光剂,
0107-摄影用显影剂,
0107-照片显影用化学合成物
-半导体制造中使用的化学品;0104-光致抗蚀剂;0104-制漆用化学品;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-和研磨剂配用的辅助液;0104-工业用亮色化学品;0104-工业用洗净剂;0104-工业用软化剂;0104-漂洗剂;0104-电镀制剂;0104-耐酸化学物质;0104-腐蚀剂;0104-非家用抗静电剂;0107-摄影用化学制剂;0107-摄影用感光剂;0107-摄影用显影剂;0107-照片显影用化学合成物 - 1905
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- 1917
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- 2024-12-28-2034-12-27
- 捷时雅株式会社
- 东京都东京************
- 霍金路伟(上海)知识产权代理有限公司
2025-01-21 商标注册申请 | 注册证发文
2024-08-27 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-07-13 商标注册申请 | 补正通知发文
2024-06-17 商标注册申请 | 申请收文
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