【ZERUNOS】商标详情
- ZERUNOS
- G1502301
- 已注册
- 普通商标
- 2019-12-05
0742 , 0744 , 0754 0742-半导体晶圆抛光机器,
0742-用于制造半导体晶圆的化学机械抛光（CMP）机器,
0744-半导体制造机,
0744-半导体晶圆加工机,
0744-半导体晶圆抛光机器,
0744-半导体晶圆电镀加工机器,
0744-用于制造半导体晶圆的化学机械抛光（CMP）机器,
0754-半导体晶圆电镀加工机器,
0754-电镀机
0742-半导体晶圆抛光机器;0742-用于制造半导体晶圆的化学机械抛光（CMP）机器;0744-半导体制造机;0744-半导体晶圆加工机;0744-半导体晶圆抛光机器;0744-半导体晶圆电镀加工机器;0744-用于制造半导体晶圆的化学机械抛光（CMP）机器;0754-半导体晶圆电镀加工机器;0754-电镀机 - 2019-10-04-2029-10-04
- EBARA CORPORATION
- 东京都东京************
- 国际局
2021-07-19 出具商标注册证明 | 核准通知书发文
2021-06-09 出具商标注册证明 | 申请收文
2020-04-02 领土延伸 | 审查
2019-12-05 领土延伸 | 申请收文
- ZERUNOS
- G1502301
- 已注册
- 普通商标
- 2019-12-05
0742 , 0744 , 0754 0742-半导体晶圆抛光机器,
0742-用于制造半导体晶圆的化学机械抛光（CMP）机器,
0744-半导体制造机,
0744-半导体晶圆加工机,
0744-半导体晶圆抛光机器,
0744-半导体晶圆电镀加工机器,
0744-用于制造半导体晶圆的化学机械抛光（CMP）机器,
0754-半导体晶圆电镀加工机器,
0754-电镀机
0742-半导体晶圆抛光机器;0742-用于制造半导体晶圆的化学机械抛光（CMP）机器;0744-半导体制造机;0744-半导体晶圆加工机;0744-半导体晶圆抛光机器;0744-半导体晶圆电镀加工机器;0744-用于制造半导体晶圆的化学机械抛光（CMP）机器;0754-半导体晶圆电镀加工机器;0754-电镀机 - 2019-10-04-2029-10-04
- EBARA CORPORATION
- 东京都东京************
- 国际局
2021-07-19 出具商标注册证明 | 核准通知书发文
2021-06-09 出具商标注册证明 | 申请收文
2020-04-02 领土延伸 | 审查
2019-12-05 领土延伸 | 申请收文
