【ZERUNOS】商标详情
- ZERUNOS
- G1583839
- 已注册
- 普通商标
- 2021-04-01
0729 , 0742 , 0744 , 0749 , 0752 , 0754 0729-用于制造半导体晶圆的化学机械抛光（CMP）机器,
0742-半导体晶圆抛光机器,
0742-用于制造半导体晶圆的化学机械抛光（CMP）机器,
0744-制造半导体及其零部件的机器,
0744-半导体晶圆加工机,
0744-半导体晶圆抛光机器,
0744-半导体晶圆电镀加工机器,
0744-用于制半导体机器的废气处理装置,
0744-用于制造半导体晶圆的化学机械抛光（CMP）机器,
0749-真空泵,
0752-用于制半导体机器的废气处理装置,
0754-半导体晶圆电镀加工机器,
0754-电镀机
0729-用于制造半导体晶圆的化学机械抛光（CMP）机器;0742-半导体晶圆抛光机器;0742-用于制造半导体晶圆的化学机械抛光（CMP）机器;0744-制造半导体及其零部件的机器;0744-半导体晶圆加工机;0744-半导体晶圆抛光机器;0744-半导体晶圆电镀加工机器;0744-用于制半导体机器的废气处理装置;0744-用于制造半导体晶圆的化学机械抛光（CMP）机器;0749-真空泵;0752-用于制半导体机器的废气处理装置;0754-半导体晶圆电镀加工机器;0754-电镀机 - 2020-12-01-2030-12-01
- EBARA CORPORATION
- 东京都东京************
- 国际局
2023-05-17 出具商标注册证明 | 核准通知书发文
2023-03-21 出具商标注册证明 | 申请收文
2021-08-05 领土延伸 | 审查
2021-04-01 领土延伸 | 申请收文
- ZERUNOS
- G1583839
- 已注册
- 普通商标
- 2021-04-01
0729 , 0742 , 0744 , 0749 , 0752 , 0754 0729-用于制造半导体晶圆的化学机械抛光（CMP）机器,
0742-半导体晶圆抛光机器,
0742-用于制造半导体晶圆的化学机械抛光（CMP）机器,
0744-制造半导体及其零部件的机器,
0744-半导体晶圆加工机,
0744-半导体晶圆抛光机器,
0744-半导体晶圆电镀加工机器,
0744-用于制半导体机器的废气处理装置,
0744-用于制造半导体晶圆的化学机械抛光（CMP）机器,
0749-真 空泵,
0752-用于制半导体机器的废气处理装置,
0754-半导体晶圆电镀加工机器,
0754-电镀机
0729-用于制造半导体晶圆的化学机械抛光（CMP）机器;0742-半导体晶圆抛光机器;0742-用于制造半导体晶圆的化学机械抛光（CMP）机器;0744-制造半导体及其零部件的机器;0744-半导体晶圆加工机;0744-半导体晶圆抛光机器;0744-半导体晶圆电镀加工机器;0744-用于制半导体机器的废气处理装置;0744-用于制造半导体晶圆的化学机械抛光（CMP）机器;0749-真空泵;0752-用于制半导体机器的废气处理装置;0754-半导体晶圆电镀加工机器;0754-电镀机 - 2020-12-01-2030-12-01
- EBARA CORPORATION
- 东京都东京************
- 国际局
2023-05-17 出具商标注册证明 | 核准通知书发文
2023-03-21 出具商标注册证明 | 申请收文
2021-08-05 领土延伸 | 审查
2021-04-01 领土延伸 | 申请收文
