
【APPLIED MATERIALS COMPLUS】商标详情

- APPLIED MATERIALS COMPLUS
- 87919590
- 已注册
- 普通商标
- 2025-09-30
0910 , 910 -用于检查晶片的暗场缺陷(包括颗粒、划痕和隆起)半导体晶片检查系统,即用于检查半导体晶片的检查机,
-用于检查晶片的暗场缺陷(包括颗粒、划痕和隆起)半导体晶片检查系统,即用于检查半导体晶片的检查机,
0910-半导体检测机,
0910-半导体测试用探针,
0910-半导体测试设备,
0910-测量器械和仪器,
910-半导体检测机,
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910-半导体测试设备,
910-测量器械和仪器
-用于检查晶片的暗场缺陷(包括颗粒、划痕和隆起)半导体晶片检查系统,即用于检查半导体晶片的检查机;-用于检查晶片的暗场缺陷(包括颗粒、划痕和隆起)半导体晶片检查系统,即用于检查半导体晶片的检查机;0910-半导体检测机;0910-半导体测试用探针;0910-半导体测试设备;0910-测量器械和仪器;910-半导体检测机;910-半导体测试用探针;910-半导体测试设备;910-测量器械和仪器 - 1968
- 2026-01-20
- 1980
- 2026-04-21
- 2026-04-21-2036-04-20
- 应用材料有限公司
- 加利福尼亚圣克拉拉************
- 北京凯拓实知识产权代理有限公司
2026-05-12 商标注册申请 | 注册证发文
2025-12-26 商标注册申请 | 受理通知书发文
2025-11-13 商标注册申请 | 补正通知书发文
2025-09-30 商标注册申请 | 申请收文
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- 87919590
- 已注册
- 普通商标
- 2025-09-30
0910 , 910 -用于检查晶片的暗场缺陷(包括颗粒、划痕和隆起)半导体晶片检查系统,即用于检查半导体晶片的检查机,
-用于检查晶片的暗场缺陷(包括颗粒、划痕和隆起)半导体晶片检查系统,即用于检查半导体晶片的检查机,
0910-半导体检测机,
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-用于检查晶片的暗场缺陷(包括颗粒、划痕和隆起)半导体晶片检查系统,即用于检查半导体晶片的检查机;-用于检查晶片的暗场缺陷(包括颗粒、划痕和隆起)半导体晶片检查系统,即用于检查半导体晶片的检查机;0910-半导体检测机;0910-半导体测试用探针;0910-半导体测试设备;0910-测量器械和仪器;910-半导体检测机;910-半导体测试用探针;910-半导体测试设备;910-测量器械和仪器 - 1968
- 2026-01-20
- 1980
- 2026-04-21
- 2026-04-21-2036-04-20
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2026-05-12 商标注册申请 | 注册证发文
2025-12-26 商标注册申请 | 受理通知书发文
2025-11-13 商标注册申请 | 补正通知书发文
2025-09-30 商标注册申请 | 申请收文


