
【P2FIT】商标详情

- P2FIT
- G1642682
- 已注册
- 普通商标
- 2022-02-03
0744 0744-半导体制造设备,
0744-半导体制造设备用控制装置,
0744-半导体制造设备的零部件和附件,
0744-半导体加工用物理气相沉积反应器,
0744-半导体加工用物理气相沉积真空薄膜成型机,
0744-半导体封装加工用溅射装置,
0744-半导体晶圆沉积处理装置,
0744-半导体晶圆物理气相沉积处理装置,
0744-半导体相关基板涂层处理装置
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- HANWHA PRECISION MACHINERY CO., LTD.
- 庆尚南道昌原市************
- 国际局
2022-06-14 领土延伸 | 审查
2022-02-03 商标注册申请 | 申请收文
2022-02-03 领土延伸 | 申请收文
- P2FIT
- G1642682
- 已注册
- 普通商标
- 2022-02-03
0744 0744-半导体制造设备,
0744-半导体制造设备用控制装置,
0744-半导体制造设备的零部件和附件,
0744-半导体加工用物理气相沉积反应器,
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- 庆尚南道昌原市************
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