【I2FIT】商标详情
- I2FIT
- G1642939
- 待审中
- 普通商标
- 2022-02-10
0744 0744-半导体制造设备,
0744-半导体制造设备用控制装置,
0744-半导体制造设备零部件和附件,
0744-半导体加工用化学气相沉积设备,
0744-半导体加工用原子层沉积设备,
0744-半导体加工用真空沉积装置,
0744-半导体加工用薄膜沉积设备,
0744-半导体晶圆沉积处理装置,
0744-原子层沉积设备
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- 首尔特别市首尔************
- 国际局
2025-04-15 国际转让 | 申请不予核准审核
2025-04-08 国际转让 | 申请收文
2023-05-10 驳回复审 | 实审裁文发文
2022-09-27 驳回复审 | 申请收文
2022-09-25 驳回复审 | 申请收文
2022-09-23 驳回复审 | 申请收文
2022-09-17 领土延伸 | 等待驳回电子发文
2022-09-17 领土延伸 | 驳回电子发文
2022-02-10 商标注册申请 | 申请收文
2022-02-10 领土延伸 | 申请收文
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- G1642939
- 待审中
- 普通商标
- 2022-02-10
0744 0744-半导体制造设备,
0744-半导体制造设备用控制装置,
0744-半导体制造设备零部件和附件,
0744-半导体加工用化学气相沉积设备,
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2025-04-15 国际转让 | 申请不予核准审核
2025-04-08 国际转让 | 申请收文
2023-05-10 驳回复审 | 实审裁文发文
2022-09-27 驳回复审 | 申请收文
2022-09-25 驳回复审 | 申请收文
2022-09-23 驳回复审 | 申请收文
2022-09-17 领土延伸 | 等待驳回电子发文
2022-09-17 领土 延伸 | 驳回电子发文
2022-02-10 商标注册申请 | 申请收文
2022-02-10 领土延伸 | 申请收文
