【NEG】商标详情
- NEG
- 69285630A
- 已注册
- 普通商标
- 2023-01-19
0102 , 0104 , 0111 0102-硅酸盐,
0104-制毛玻璃用化学品,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-烧结用颗粒状和粉状陶瓷物质,
0104-玻璃着色化学品,
0104-玻璃纤维工业用脱模化合物,
0104-玻璃遮光剂,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0111-金属回火剂
0102-硅酸盐;0104-制毛玻璃用化学品;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-烧结用颗粒状和粉状陶瓷物质;0104-玻璃着色化学品;0104-玻璃纤维工业用脱模化合物;0104-玻璃遮光剂;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0111-金属回火剂 - 1839
- 2023-05-13
- 1851
- 2023-08-14
- 2023-08-14-2033-08-13
- 日本电气硝子株式会社
- 滋贺大津市************
- 北京林达刘知识产权代理事务所（普通合伙）
2023-09-07 商标注册申请 | 注册证发文
2023-05-04 商标注册申请 | 等待驳回复审
2023-04-06 商标注册申请 | 驳回通知发文
2023-03-21 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-02-04 商标注册申请 | 补正通知发文
2023-01-19 商标注册申请 | 申请收文
- NEG
- 69285630A
- 已注册
- 普通商标
- 2023-01-19
0102 , 0104 , 0111 0102-硅酸盐,
0104-制毛玻璃用化学品,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-烧结用颗粒状和粉状陶瓷物质,
0104-玻璃着色化学品,
0104-玻璃纤维工业用脱模化合物,
0104-玻璃遮光剂,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0111-金属回火剂
0102-硅酸盐;0104-制毛玻璃用化学品;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-烧结用颗粒状和粉状陶瓷物质;0104-玻璃着色化学品;0104-玻璃纤维工业用脱模化合物;0104-玻璃遮光剂;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0111-金属回火剂 - 1839
- 2023-05-13
- 1851
- 2023-08-14
- 2023-08-14-2033-08-13
- 日本电气硝子株式会社
- 滋贺大津市************
- 北京林达刘知识产权代理事务所（普通合伙）
2023-09-07 商标注册申请 | 注册证发文
2023-05-04 商标注册申请 | 等待驳回复审
2023-04-06 商标注册申请 | 驳回通知发文
2023-03-21 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-02-04 商标注册申请 | 补正通知发文
2023-01-19 商标注册申请 | 申请收文
