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【LUNAFLAT】商标详情

商标名称
LUNAFLAT
注册号
34830827
当前状态
已注册
商标类型
普通商标
类别
第01类
申请日期
2018-11-22
类似群
0104
商品/服务列表
-半导体用研磨剂,
-半导体用研磨剂助剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-和研磨剂配用的辅助液,
0104-工业用化学品
-半导体用研磨剂;-半导体用研磨剂助剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-和研磨剂配用的辅助液;0104-工业用化学品
初审公告期号
1646
初审公告日期
2019-05-06
注册公告期号
1658
注册公告日期
2019-08-07
专用权期限
2019-08-07-2029-08-06
申请人
花王株式会社
申请人地址
东京都东京************
代理人名称
北京联德知识产权代理有限公司
商标流程
2019-10-09 商标注册申请 | 注册证发文
2019-03-20 商标注册申请 | 受理通知书发文
2019-02-11 商标注册申请 | 等待补正回文
2019-01-16 商标注册申请 | 补正通知发文
2018-11-22 商标注册申请 | 申请收文
商标公告
商标注册公告（一） 2019-08-06 第1658期查看公告
商标初步审定公告 2019-05-06 第1646期查看公告

商标名称
LUNAFLAT
注册号
34830827
当前状态
已注册
商标类型
普通商标
类别
第01类
申请日期
2018-11-22
类似群
0104
商品/服务列表
-半导体用研磨剂,
-半导体用研磨剂助剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-和研磨剂配用的辅助液,
0104-工业用化学品
-半导体用研磨剂;-半导体用研磨剂助剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-和研磨剂配用的辅助液;0104-工业用化学品
初审公告期号
1646
初审公告日期
2019-05-06
注册公告期号
1658
注册公告日期
2019-08-07
专用权期限
2019-08-07-2029-08-06
申请人
花王株式会社
申请人地址
东京都东京************
代理人名称
北京联德知识产权代理有限公司
商标流程
2019-10-09 商标注册申请 | 注册证发文
2019-03-20 商标注册申请 | 受理通知书发文
2019-02-11 商标注册申请 | 等待补正回文
2019-01-16 商标注册申请 | 补正通知发文
2018-11-22 商标注册申请 | 申请收文
商标公告
商标注册公告（一） 2019-08-06 第1658期查看公告
商标初步审定公告 2019-05-06 第1646期查看公告

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