【LUNAFLOW】商标详情
- LUNAFLOW
- 71310602
- 已注册
- 普通商标
- 2023-05-04
0104 , 0110 , 0115 0104-工业用化学制剂,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0104-眼镜片用化学涂层,
0104-脱模制剂,
0104-融化冰雪用化学制剂,
0104-防污剂,
0110-纺织品阻燃涂层用化学制剂,
0115-涂层和密封用工业黏合剂
0104-工业用化学制剂;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0104-眼镜片用化学涂层;0104-脱模制剂;0104-融化冰雪用化学制剂;0104-防污剂;0110-纺织品阻燃涂层用化学制剂;0115-涂层和密封用工业黏合剂 - 1860
- 2023-10-20
- 1872
- 2024-01-21
- 2024-01-21-2034-01-20
- 花王株式会社
- 东京都东京************
- 霍金路伟（上海）知识产权代理有限公司
2024-02-25 商标注册申请 | 注册证发文
2023-06-15 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-05-24 商标注册申请 | 补正通知发文
2023-05-04 商标注册申请 | 申请收文
- LUNAFLOW
- 71310602
- 已注册
- 普通商标
- 2023-05-04
0104 , 0110 , 0115 0104-工业用化学制剂,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0104-眼镜片用化学涂层,
0104-脱模制剂,
0104-融化冰雪用化学制剂,
0104-防污剂,
0110-纺织品阻燃涂层用化学制剂,
0115-涂层和密封用工业黏合剂
0104-工业用化学制剂;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0104-眼镜片用化学涂层;0104-脱模制剂;0104-融化冰雪用化学制剂;0104-防污剂;0110-纺织品阻燃涂层用化学制剂;0115-涂层和密封用工业黏合剂 - 1860
- 2023-10-20
- 1872
- 2024-01-21
- 2024-01-21-2034-01-20
- 花王株式会社
- 东京都东京************
- 霍金路伟（上海）知识产权代理有限公司
2024-02-25 商标注册申请 | 注册证发文
2023-06-15 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-05-24 商标注册申请 | 补正通知发文
2023-05-04 商标注册申请 | 申请收文
