【LEAD】商标详情
- LEAD
- G1265787
- 待审中
- 普通商标
- 2015-09-24
0901 , 0913 0901-与显示器、电池和触控面板配套使用的计算机程序,
0901-与溅射阴极与旋转溅射阴极配套使用的计算机程序，尤其是采用可倾斜磁控的磁控溅射机及其零部件,
0901-与玻璃基板处理设备及其组件配套使用的计算机程序，即物理气相沉积反应器，尤其是磁控溅射机，及其支撑框架及组件,
0913-半导体
0901-与显示器、电池和触控面板配套使用的计算机程序;0901-与溅射阴极与旋转溅射阴极配套使用的计算机程序，尤其是采用可倾斜磁控的磁控溅射机及其零部件;0901-与玻璃基板处理设备 及其组件配套使用的计算机程序，即物理气相沉积反应器，尤其是磁控溅射机，及其支撑框架及组件;0913-半导体 - 2015-06-24-2025-06-24
- APPLIED MATERIALS GMBH & CO. KG
- 巴伐利亚阿尔策瑙************
2017-01-19 驳回复审 | 申请收文
2015-09-24 商标注册申请 | 申请 收文
2015-09-24 领土延伸 | 申请收文
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- 待审中
- 普通商标
- 2015-09-24
0901 , 0913 0901-与显示器、电池和触控面板配套使用的计算机程序,
0901- 与溅射阴极与旋转溅射阴极配套使用的计算机程序，尤其是采用可倾斜磁控的磁控溅射机及其零部件,
0901-与玻璃基板处理设备及其组件配套使用的计算机程序，即物理气相沉积反应器，尤其是磁控溅射机，及其支撑框架及组件,
0913-半导体
0901-与显示器、电池和触控面板配套使用的计算机程序;0901-与溅射阴极与旋转溅射阴极配套使用的计算机程序，尤其是采用可倾斜磁控的磁控溅射机及其零部件;0901-与玻璃基板处理设备及其组件配套使用的计算机程序，即物理气相沉积反应器，尤其是磁控溅射机，及其支撑框架及组件;0913-半导体 - 2015-06-24-2025-06-24
- APPLIED MATERIALS GMBH & CO. KG
- 巴伐利亚阿尔策瑙************
2017-01-19 驳回复审 | 申请收文
2015-09-24 商标注册申请 | 申请收文
2015-09-24 领土延伸 | 申请收文
