![【鑫晶国际 WAFER TECHNOLOGY】商标详情](https://img.alicdn.com/imgextra/i1/O1CN01WWwzkn1wFpngoFZM2_!!6000000006279-2-tps-42-42.png)
【鑫晶国际 WAFER TECHNOLOGY】商标详情
![鑫晶国际 WAFER TECHNOLOGY](https://tm-data.oss-cn-beijing.aliyuncs.com/tm_img/202022/5/48890045.jpg?Expires=1739842030&OSSAccessKeyId=LTAI5tQpTc5yUcd6GBnvtpGj&Signature=300afUFJQFFZJFgM6fnHNrpf%2BQg%3D)
- 鑫晶国际 WAFER TECHNOLOGY
- 48890045
- 已销亡
- 普通商标
- 2020-08-13
0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-工业硅,
0102-二氧化硅,
0102-碳化硅,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料
0101-半导体用硅;0101-工业硅;0102-二氧化硅;0102-碳化硅;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料 - 徐州芯晶新材料科技有限公司
- 江苏省徐州市************
- 徐州君合法律咨询服务有限公司
2021-03-06 商标注册申请 | 等待驳回复审
2021-01-09 商标注册申请 | 驳回通知发文
2020-09-16 商标注册申请 | 受理通知书发文
2020-08-13 商标注册申请 | 申请收文
- 鑫晶国际 WAFER TECHNOLOGY
- 48890045
- 已销亡
- 普通商标
- 2020-08-13
0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-工业硅,
0102-二氧化硅,
0102-碳化硅,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料
0101-半导体用硅;0101-工业硅;0102-二氧化硅;0102-碳化硅;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料 - 徐州芯晶新材料科技有限公司
- 江苏省徐州市************
- 徐州君合法律咨询服务有限公司
2021-03-06 商标注册申请 | 等待驳回复审
2021-01-09 商标注册申请 | 驳回通知发文
2020-09-16 商标注册申请 | 受理通知书发文
2020-08-13 商标注册申请 | 申请收文
![近期商标资讯](https://img.alicdn.com/imgextra/i4/O1CN01slM5u427FL94GtizP_!!6000000007767-2-tps-36-39.png)