【芯晶国际 WAFER TECHNOLOGY】商标详情
- 芯晶国际 WAFER TECHNOLOGY
- 48919565
- 已驳回
- 普通商标
- 2020-08-13
0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-工业硅,
0102-二氧化硅,
0102-碳化硅,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料
0101-半导体用硅;0101-工业硅;0102-二氧化硅;0102-碳化硅;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料 - 徐州芯晶新材料科技有限公司
- 江苏省徐州市************
- 徐州君合法律咨询服务有限公司
2021-03-23 商标注册申请 | 等待驳回复 审
2021-01-26 商标注册申请 | 驳回通知发文
2020-09-16 商标注册申请 | 受理通知书发文
2020-08-13 商标注册申请 | 申请收文
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- 2020-08-13
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0101-工业硅,
0102-二氧化硅,
0102-碳化硅,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料
0101-半导体用硅;0101-工业硅;0102-二氧化硅;0102-碳化硅;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料 - 徐州芯晶新材料科技有限公司
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