【QXP+】商标详情
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- G1796277
- 待审中
- 普通商标
- 2024-06-27
0729 , 0742 , 0744 , 0748 , 0749 , 0750 , 0752 0729-半导体制造机,即化学气相沉积(CVD)反应器、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)反应器、原子层沉积(ALD)反应器或原子气相沉积(AVD)反应器以及上述商品的构件,即用于半导体制造用液态或气态物质的注射器械和仪器,
0742-机器人、真空系统、马达和引擎、驱动装置(半导体制造机器的部件以及操作半导体制造机器用控制机械装置),
0744-半导体制造机,即化学气相沉积(CVD)反应器、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)反应器、原子层沉积(ALD)反应器或原子气相沉积(AVD)反应器以及上述商品的构件,即用于半导体制造用液态或气态物质的注射器械和仪器,
0744-半导体加工/制造机器,
0744-半导体晶片加工设备,
0744-半导体芯片制造设备,即半导体芯片制造机器,
0744-在半导体工业中使用空气来辅助清洁部件的工业清洁设备,
0744-机器人、真空系统、马达和引擎、驱动装置(半导体制造机器的部件以及操作半导体制造机器用控制机械装置),
0744-生产半导体用机器,
0744-用于加工和制造半导体或用于薄膜沉积的设备,
0744-用于注入液体或气体材料并且非医用的半导体制造用注射机器,
0744-薄膜沉积机器,
0744-金属有机气相沉积设备,即半导体加工机器用气相沉积设备,以及用于制造半导体的化学气相沉积设备,
0748-机器人、真空系统、马达和引擎、驱动装置(半导体制造机器的部件以及操作半导体制造机器用控制机械装置),
0749-机器人、真空系统、马达和引擎、驱动装置(半导体制造机器的部件以及操作半导体制造机器用控制机械装置),
0750-机器人、真空系统、马达和引擎、驱动装置(半导体制造机器的部件以及操作半导体制造机器用控制机械装置),
0752-在半导体工业中使用空气来辅助清洁部件的工业清洁设备
0729-半导体制造机,即化学气相沉积(CVD)反应器、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)反应器、原子层沉积(ALD)反应器或原子气相沉积(AVD)反应器以及上述商品的构件,即用于半导体制造用液态或气态物质的注射器械和仪器;0742-机器人、真空系统、马达和引擎、驱动装置(半导体制造机器的部件以及操作半导体制造机器用控制机械装置);0744-半导体制造机,即化学气相沉积(CVD)反应器、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)反应器、原子层沉积(ALD)反应器或原子气相沉积(AVD)反应器以及上述商品的构件,即用于半导体制造用液态或气态物质的注射器械和仪器;0744-半导体加工/制造机器;0744-半导体晶片加工设备;0744-半导体芯片制造设备,即半导体芯片制造机器;0744-在半导体工业中使用空气来辅助清洁部件的工业清洁设备;0744-机器人、真空系统、马达和引擎、驱动装置(半导体制造机器的部件以及操作半导体制造机器用控制机械装置);0744-生产半导体用机器;0744-用于加工和制造半导体或用于薄膜沉积的设备;0744-用于注入液体或气体材料并且非医用的半导体制造用注射机器;0744-薄膜沉积机器;0744-金属有机气相沉积设备,即半导体加工机器用气相沉积设备,以及用于制造半导体的化学气相沉积设备;0748-机器人、真空系统、马达和引擎、驱动装置(半导体制造机器的部件以及操作半导体制造机器用控制机械装置);0749-机器人、真空系统、马达和引擎、驱动装置(半导体制造机器的部件以及操作半导体制造机器用控制机械装置);0750-机器人、真空系统、马达和引擎、驱动装置(半导体制造机器的部件以及操作半导体制造机器用控制机械装置);0752-在半导体工业中使用空气来辅助清洁部件的工业清洁设备 - EUGENUS, INC.
- 加利福尼亚圣何塞************
- 国际局
2024-06-27 领土延伸 | 申请收文
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0729 , 0742 , 0744 , 0748 , 0749 , 0750 , 0752 0729-半导体制造机,即化学气相沉积(CVD)反应器、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)反应器、原子层沉积(ALD)反应器或原子气相沉积(AVD)反应器以及上述商品的构件,即用于半导体制造用液态或气态物质的注射器械 和仪器,
0742-机器人、真空系统、马达和引擎、驱动装置(半导体制造机器的部件以及操作半导体制造机器用控制机械装置),
0744-半导体制造机,即化学气相沉积(CVD)反应器、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)反应器、原子层沉积(ALD)反应器或原子气相沉积(AVD)反应器以及上述商品的构件,即用于半导体制造用液态或气态物质的注射器械和仪器,
0744-半导体加工/制造机器,
0744-半导体晶片加工设备,
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0744-机器人、真空系统、马达和引擎、驱动装置(半导体制造机器的部件以及操作半导体制造机器用控制机械装置),
0744-生产半导体用机器,
0744-用于加工和制造半导体或用于薄膜沉积的设备,
0744-用于注入液体或气体材料并且非医用的半导体制造用注射机器,
0744-薄膜沉积机器,
0744-金属有机气相沉积设备,即半导体加工机器用气相沉积设备,以及用于制造半导体的化学气相沉积设备,
0748-机器人、真空系统、马达和引擎、驱动装置(半导体制造机器的部件以及操作半导体制造机器用控制机械装置),
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0750-机器人、真空系统、马达和引擎、驱动装置(半导体制造机器的部件以及操作半导体制造机器用控制机械装置),
0752-在半导体工业中使用空气来辅助清洁部件的工业清洁设备
0729-半导体制造机,即化学气相沉积(CVD)反应器、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)反应器、原子层沉积(ALD)反应器或原子气相沉积(AVD)反应器以及上述商品的构件,即用于半导体制造用液态或气态物质的注射器械和仪器;0742-机器人、真空系统、马达和引擎、驱动装置(半导体制造机器的部件以及操作半导体制造机器用控制机械装置);0744-半导体制造机,即化学气相沉积(CVD)反应器、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)反应器、原子层沉积(ALD)反应器或原子气相沉积(AVD)反应器以及上述商品的构件,即用于半导体制造用液态或气态物质的注射器械和仪器;0744-半导体加工/制造机器;0744-半导体晶片加工设备;0744-半导体芯片制造设备,即半导体芯片制造机器;0744-在半导体工业中使用空气来辅助清洁部件的工业清洁设备;0744-机器人、真空系统、马达和引擎、驱动装置(半导体制造机器的部件以及操作半导体制造机器用控制机械装置);0744-生产半导体用机器;0744-用于加工和制造半导体或用于薄膜沉积的设备;0744-用于注入液体或气体材料并且非医用的半导体制造用注射机器;0744-薄膜沉积机器;0744-金属有机气相沉积设备,即半导体加工机器用气相沉积设备,以及用于制造半导体的化学气相沉积设备;0748-机器人、真空系统、马达和引擎、驱动装置(半导体制造机器的部件以及操作半导体制造机器用控制机械装置);0749-机器人、真空系统、马达和引擎、驱动装置(半导体制造机器的部件以及操作半导体制造机器用控制机械装置);0750-机器人、真空系统、马达和引擎、驱动装置(半导体制造机器的部件以及操作半导体制造机器用控制机械装置);0752-在半导体工业中使用空气来辅助清洁部件的工业清洁设备 - EUGENUS, INC.
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