【QXP】商标详情
- QXP
- G1781428
- 待审中
- 普通商标
- 2024-03-21
0729 , 0742 , 0744 , 0748 , 0749 , 0750 , 0752 0729-半导体制造机,即化学气相沉积(CVD)反应器、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)反应器、原子层沉积(ALD)反应器或原子气相沉积(AVD)反应器以及上述商品的构件,即用于半导体制造用液态或气态物质的注射器械和仪器,
0742-用于操作半导体制造机器的机器人、真空系统、马达和引擎、驱动装置、机器部件和机械控制装置,
0744-半导体制造机,即化学气相沉积(CVD)反应器、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)反应器、原子层沉 积(ALD)反应器或原子气相沉积(AVD)反应器以及上述商品的构件,即用于半导体制造用液态或气态物质的注射器械和仪器,
0744-半导体制造用金属有机气相沉积设备,
0744-半导体加工/制造机器,
0744-半导体晶片加工设备,
0744-半导体芯片制造设备,
0744-用于加工和制造半导体或用于薄膜沉积的设备,
0744-用于注入液体或气体材料并且非医用的半导体制造用注射机器,
0744-用于生产半导体的机器,
0744-薄膜沉积机器,
0748-用于操作半导体制造机器的机器人、真空系统、马达和引擎、驱动装置、机器部件和机械控制装置,
0749-用于操作半导体制造机器的机器人、真空系统、马达和引擎、驱动装置、机器部件和机械控制装置,
0750-用于半导体生产机器的控制机构,
0750-用于半导体生产机器的控制机械,
0750-用于操作半导体制造机器的机器人、真空系统、马达和引擎、驱动装置、机器部件和机械控制装置,
0752-在半导体工业中使用空气来辅助清洁部件的工业清洁设备
0729-半导体制造机,即化学气相沉积(CVD)反应器、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)反应器、原子层沉积(ALD)反应器或原子气相沉积(AVD)反应器以及上述商品的构件,即用于半导体制造用液态或气态物质的注射器械和仪器;0742-用于操作半导体制造机器的机器人、真空系统、马达和引擎、驱动装置、机器部件和机械控制装置;0744-半导体制造机,即化学气相沉积(CVD)反应器、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)反应器、原子层沉积(ALD)反应器或原子气相沉积(AVD)反应器以及上述商品的构件,即用于半导体制造用液态或气态物质的注射器械和仪器;0744-半导体制造用金属有机气相沉积设备;0744-半导体加工/制造机器;0744-半导体晶片加工设备;0744-半导体芯片制造设备;0744-用于加工和制造半导体或用于薄膜沉积的设备;0744-用于注入液体或气体材料并且非医用的半导体制造用注射机器;0744-用于生产半导体的机器;0744-薄膜沉积机器;0748-用于操作半导体制造机器的机器人、真空系统、马达和引擎、驱动装置、机器部件和机械控制装置;0749-用于操作半导体制造机器的机器人、真空系统、马达和引擎、驱动装置、机器部件和机械控制装置;0750-用于半导体生产机器的控制机构;0750-用于半导体生产机器的控制机械;0750-用于操作半导体制造机器的机器人、真空系统、马达和引擎、驱动装置、机器部件和机械控制装置;0752-在半导体工业中使用空气来辅助清洁部件的工业清洁设备 - EUGENUS, INC.
- 加利福尼亚圣何塞************
- 国际局
2024-09-03 领土延伸 | 驳回电子发文
2024-06-17 商标异议(国际) | 申请收文
2024-03-21 领土延伸 | 申请收文
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0729 , 0742 , 0744 , 0748 , 0749 , 0750 , 0752 0729-半导体制造机,即化学气相沉积(CVD)反应器、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)反应器、原子层沉积(ALD)反应器或原子气相沉积(AVD)反应器以及上述商品的构件,即用于半导体制造用液态或气态物质的注射器械和仪器,
0742-用于操作半导体制造机器的机器人、真空系统、马达和引擎、驱动装置、机器部件和机械控制装置,
0744-半导体制造机,即化学气相沉积(CVD)反应器、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)反应器、原子层沉积(ALD)反应器或原子气相沉积(AVD)反应器以及上述商品的构件,即用于半导体制造用液态或气态物质的注射器械和仪器,
0744-半导体制造用金属有机气相沉积设备,
0744-半导体加工/制造机器,
0744-半导体晶片加工设备,
0744-半导体芯片制造设备,
0744-用于加工和制造半导体或用于薄膜沉积的设备,
0744-用于注入液体或气体材料并且非医用的半导体制造用注射机器,
0744-用于生产半导体的机器,
0744-薄膜沉积机器,
0748-用于操作半导体制造机器的机器人、真空系统、马达和引擎、驱动装置、机器部件和机械控制装置,
0749-用于操作半导体制造机器的机器人、真空系统、马达和引擎、驱动装置、机器部件和机械控制装置,
0750-用于半导体生产机器的控制机构,
0750-用于半导体生产机器的控制机械,
0750-用于操作半导体制造机器的机器人、真空系统、马达和引擎、驱动装置、机器部件和机械控制装置,
0752-在半导体工业中使用空气来辅助清洁部件的工业清洁设备
0729-半导体制造机,即化学气相沉积(CVD)反应器、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)反应器、原子层沉积(ALD)反应器或原子气相沉积(AVD)反应器以及上述商品的构件,即用于半导体制造用液态或气态物质的注射器械和仪器;0742-用于操作半导体制造机器的机器人、真空系统、马达和引擎、驱动装置、机器部件和机械控制装置;0744-半导体制造机,即化学气相沉积(CVD)反应器、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)反应器、原子层沉积(ALD)反应器或原子气相沉积(AVD)反应器以及上述商品的构件,即用于半导体制造用液态或气态物质的注射器械和仪器;0744-半导体制造用金属有机气相沉积设备;0744-半导体加工/制造机器;0744-半导体晶片加工设备;0744-半导体芯片制造设备;0744-用于加工和制造半导体或用于薄膜沉积的设备;0744-用于注入液体或气体材料并且非医用的半导体制造用注射机器;0744-用于生产半导体的机器;0744-薄膜沉积机器;0748-用于操作半导体制造机器的机器人、真空系统、马达和引擎、驱动装置、机器部件和机械控制装置;0749-用于操作半导体制造机器的机器人、真空系统、马达和引擎、驱动装置、机器部件和机械控制装置;0750-用于半导体生产机器的控制机构;0750-用于半导体生产机器的控制机械;0750-用于操作半导体制造机器的机器人、真空系统、马达和引擎、驱动装置、机器部件和机械控制装置;0752-在半导体工业中使用空气来辅助清洁部件的工业清洁设备 - EUGENUS, INC.
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