【至格】商标详情
- 至格
- 66676538
- 已注册
- 普通商标
- 2022-08-18
0104 , 0106 , 0107 , 0115 0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-玻璃遮光剂,
0104-眼镜片用化学涂层,
0104-胶溶剂,
0104-脱模制剂,
0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）,
0107-摄影用化学制剂,
0115-工业用胶水,
0115-工业用黏合剂
0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-玻璃遮光剂;0104-眼镜片用化学涂层;0104-胶溶剂;0104-脱模制剂;0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）;0107-摄影用化学制剂;0115-工业用胶水;0115-工业用黏合剂 - 1826
- 2023-02-06
- 1838
- 2023-05-07
- 2023-05-07-2033-05-06
- 北京至格科技有限公司
- 北京市北京市************
- 北京京师创产知识产权代理有限公司
2023-05-31 商标注册申请 | 注册证发文
2023-01-18 商标注册申请 | 等待驳回复审
2022-11-23 商标注册申请 | 等待驳回通知发文
2022-11-23 商标注册申请 | 驳回通知发文
2022-09-01 商标注册申请 | 受理通知书发文
2022-09-01 商标注册申请 | 等待受理通知书发文
2022-08-18 商标注册申请 | 申请收文
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0104 , 0106 , 0107 , 0115 0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-玻璃遮光剂,
0104-眼镜片用化学涂层,
0104-胶溶剂,
0104-脱模制剂,
0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）,
0107-摄影用化学制剂,
0115-工业用胶水,
0115-工业用黏合剂
0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-玻璃遮光剂;0104-眼镜片用化学涂层;0104-胶溶剂;0104-脱模制剂;0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）;0107-摄影用化学制剂;0115-工业 用胶水;0115-工业用黏合剂 - 1826
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