【GREATAR 至格】商标详情
- GREATAR 至格
- 78219189
- 待审中
- 普通商标
- 2024-04-25
0104 , 0107 , 0115 0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-玻璃遮光剂,
0104-眼镜片用化学涂层,
0104-胶溶剂,
0104-脱模制剂,
0107-摄影用化学制剂,
0115-工业用胶水,
0115-工业用黏合剂
0104-半导体 制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-玻璃遮光剂;0104-眼镜片用化学涂层;0104-胶溶剂;0104-脱模制剂;0107-摄影用化学制剂;0115-工业用胶水;0115-工业用黏合剂 - 北京至格科技有限公司
- 北京市北京市************
- 北京众达德权知识产权代理有限公司
2024-09-17 商标 注册申请 | 等待驳回复审
2024-07-24 商标注册申请 | 驳回通知发文
2024-05-14 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-04-25 商标注册申请 | 申请收文
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0115-工业用胶水,
0115-工业用黏合剂
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