【AERA】商标详情
- AERA
- G1654630
- 已注册
- 普通商标
- 2022-04-07
0744 0744-半导体晶圆加工设备，即利用航空成像和高分辨率成像检测晶圆掩模的光学缺陷检测系统,
0744-半导体晶圆加工设备，即由利用航空成像和高分辨率成像检测晶圆掩模的半导体晶圆加工机组成用光学缺陷检测系统
0744-半导体晶圆加工设备，即利用航空成像和高分辨率成像检测晶圆掩模的光学缺陷检测系统;0744-半导体晶圆加工设备，即由利用航空成像和高分辨率成像检测晶圆掩模的半导体晶圆加工机组成用光学缺陷检测系统 - APPLIED MATERIALS， INC.
- 加利福尼亚圣克拉拉************
- 国际局
2023-11-05 国际部分注销 | 申请收文
2022-08-02 领土延伸 | 审查
2022-04-07 商标注册申请 | 申请收文
2022-04-07 领土延伸 | 申请收文
- AERA
- G1654630
- 已注册
- 普通商标
- 2022-04-07
0744 0744-半导体晶圆加工设备，即利用航空成像和高分辨率成像检测晶圆掩模的光学缺陷检测系统,
0744-半导体晶圆加工设备，即由利用航 空成像和高分辨率成像检测晶圆掩模的半导体晶圆加工机组成用光学缺陷检测系统
0744-半导体晶圆加工设备，即利用航空成像和高分辨率成像检测晶圆掩模的光学缺陷检测系统;0744-半导体晶圆加工设备，即由利用航空成像和高分辨率成像检测晶圆掩模的半导体晶圆加工机组成用光学缺陷检测系统 - APPLIED MATERIALS， INC.
- 加利福尼亚圣克拉拉************
- 国际局
2023-11-05 国际部分注销 | 申请收文
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2022-04-07 商标注册申请 | 申请收文
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