【AERA】商标详情
- AERA
- G1668343
- 待审中
- 普通商标
- 2022-06-23
0744 0744-半导体制造用气体供应装置,
0744-半导体制造用流体压力控制装置,
0744-半导体制造用流体流动控制装置,
0744-半导体制造用流体流动测量装置
0744-半导体制造用气体供应装置;0744-半导体制造用流体压力控制装置;0744-半导体制造用流体流动控制装置;0744-半导体制造用流体流动测量装置 - 2022-03-14-2032-03-14
- Proterial， Ltd.
- 东京都东京************
2023-01-12 驳回复审 | 申请收文
2022-12-01 领土延伸 | 等待驳回电子发文
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0744 0744-半导体制造用气体供应装置,
0744-半导体制造用流体压力控制装置,
0744-半导体制造用流体流动控制装置,
0744-半导体制造用流体流动测量装置
0744-半导体制造用气体供应装置;0744-半导体制造用流体压力控制装置;0744-半导体制造用流体流动控制装置;0744-半导体制造用流体流动测量装置 - 2022-03-14-2032-03-14
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