【QXP+】商标详情
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- G1796277
- 待审中
- 普通商标
- 2024-06-27
0901 , 0910 , 0913 0901-用于半导体加工或薄膜沉积的已录制的计算机软件,
0901-用于处理半导体晶片的计算机软件,
0901-用于聚合物在表面上的化学和/或等离子体增强气相沉积的半导体制造机器和装置的操作用可下载的计算机操作系统软件,
0901-用于薄膜在表面上沉积的化学气相沉积(CVD)反应器、等离子体增强化学气相淀积(PECVD)反应器、原子层沉积(ALD)反应器或原子气相沉积反应器的半导体制造机器和装置的操作用可下载的计算机控制软件,
0901-电子半导体控制、检查和测量设备,即用于测量、检查和控制晶片表面薄膜生长或沉积以及单个半导体晶片晶片表面温度的计算机硬件和已录制的计算机软件,
0910-与下述商品配套使用的电子控制器和测量设备:用于表面聚合物的化学和/或等离子体增强气相沉积的半导体制造机器和装置,
0910-半导体测试仪,
0913-与下述商品配套使用的电子控制器和测量设备:用于表面聚合物的化学和/或等离子体增强气相沉积的半导体制造机器和装置,
0913-半导体
0901-用于半导体加工或薄膜沉积的已录制的计算机软件;0901-用于处理半导体晶片的计算机软件;0901-用于聚合物在表面上的化学和/或等离子体增强气相沉积的半导体制造机器和装置的操作用可下载的计算机操作系统软件;0901-用于薄膜在表面上沉积的化学气相沉积(CVD)反应器、等离子体增强化学气相淀积(PECVD)反应器、原子层沉积(ALD)反应器或原子气相沉积反应器的半导体制造机器和装置的操作用可下载的计算机控制软件;0901-电子半导体控制、检查和测量设备,即用于测量、检查和控制晶片表面薄膜生长或沉积以及单个半导体晶片晶片表面温度的计算机硬件和已录制的计算机软件;0910-与下述商品配套使用的电子控制器和测量设备:用于表面聚合物的化学和/或等离子体增强气相沉积的半导体制造机器和装置;0910-半导体测试仪;0913-与下述商品配套使用的电子控制器和测量设备:用于表面聚合物的化学和/或等离子体增强气相沉积的半导体制造机器和装置;0913-半导体 - EUGENUS, INC.
- 加利福尼亚圣何塞************
- 国际局
2024-06-27 领土延伸 | 申请收文
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0901 , 0910 , 0913 0901-用于半导体加工或薄膜沉积的已录制的计算机软件,
0901-用于处理半导体晶片的计算机软件,
0901-用于聚合物在表面上的化学和/或等离子体增强气相沉积的半导体制造机器和装置的操作用可下载的计算机操作系统软件,
0901-用于薄膜在表面上沉积的化学气相沉积(CVD)反应器、等离子体增强化学气相淀积(PECVD)反应器、原子层沉积(ALD)反应器或原子气相沉积反应器的半导体制造机器和装置的操作用可下载的计算机控制软件,
0901-电子半导体控制、检查和测量设备,即用于测量 、检查和控制晶片表面薄膜生长或沉积以及单个半导体晶片晶片表面温度的计算机硬件和已录制的计算机软件,
0910-与下述商品配套使用的电子控制器和测量设备:用于表面聚合物的化学和/或等离子体增强气相沉积的半导体制造机器和装置,
0910-半导体测试仪,
0913-与下述商品配套使用的电子控制器和测量设备:用于表面聚合物的化学和/或等离子体增强气相沉积的半导体制造机器和装置,
0913-半导体
0901-用于半导体加工或薄膜沉积的已录制的计算机软件;0901-用于处理半导体晶片的计算机软件;0901-用于聚合物在表面上的化学和/或等离子体增强气相沉积的半导体制造机器和装置的操作用可下载的计算机操作系统软件;0901-用于薄膜在表面上沉积的化学气相沉积(CVD)反应器、等离子体增强化学气相淀积(PECVD)反应器、原子层沉积(ALD)反应器或原子气相沉积反应器的半导体制造机器和装置的操作用可下载的计算机控制软件;0901-电子半导体控制、检查和测量设备,即用于测量、检查和控制晶片表面薄膜生长或沉积以及单个半导体晶片晶片表面温度的计算机硬件和已录制的计算机软件;0910-与下述商品配套使用的电子控制器和测量设备:用于表面聚合物的化学和/或等离子体增强气相沉积的半导体制造机器和装置;0910-半导体测试仪;0913-与下述商品配套使用的电子控制器和测量设备:用于表面聚合物的化学和/或等离子体增强气相沉积的半导体制造机器和装置;0913-半导体 - EUGENUS, INC.
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