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0901-下述用途的控制软件：操作用于表面薄膜的化学气相沉积（CVD）反应器、等离子体增强化学气相沉积（PECVD）反应器、原子层沉积（ALD）反应器或原子气相沉积（AVD）反应器的半导体制造机器和装置,

0901-下述用途的操作系统软件：操作用于表面聚合物的化学和/或等离子体增强气相沉积的半导体制造机器和装置,

0901-与用于半导体处理或薄膜沉积的设备、仪器或计算机配套使用的软件,

0901-半导体电子控制、检查和测量装置，即用于测量、检查和控制晶片表面薄膜生长或沉积以及单个半导体晶片的晶片表面温度的计算机硬件和软件,

0901-用于处理半导体晶片的计算机软件,

0910-与下述商品配套使用的电子控制器和测量设备：用于表面聚合物的化学和/或等离子体增强气相沉积的半导体制造机器和装置,

0910-半导体测试设备,

0913-与下述商品配套使用的电子控制器和测量设备：用于表面聚合物的化学和/或等离子体增强气相沉积的半导体制造机器和装置,

0913-半导体