【SYNTERYX】商标详情
- SYNTERYX
- 87494965
- 已初审
- 普通商标
- 2025-09-08
0104 , 0112 , 0115 0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-金属电镀用化学成分,
0112-助焊剂,
0112-焊接用化学品,
0112-金属焊接用助剂,
0112-铜焊用化学品,
0115-工业用塑料基黏合剂
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-金属电镀用化学成分;0112-助焊剂;0112-焊接用化学品;0112-金属焊接用助剂;0112-铜焊用化学品;0115-工业用塑料基黏合剂 - 1964
- 2025-12-20
- 杭州梦烜服饰有限公司
- 浙江省杭州市************
- 深圳市卓熙国际知识产权有限公司
2025-10-10 商标注册申请 | 受理通知书发文
2025-09-23 商标注册申请 | 申请收文
2025-09-08 商标注册申请 | 申请收文
商标初步审定公告 2025-12-20 第1964期 查看公告
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- 87494965
- 已初审
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- 2025-09-08
0104 , 0112 , 0115 0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-金属电镀用化学成分,
0112-助焊剂,
0112-焊接用化学品,
0112-金属焊接用助剂,
0112-铜焊用化学品,
0115-工业用塑料基黏合剂
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-金属电镀用化学成分;0112-助焊剂;0112-焊接用化学品;0112-金属焊接用助剂;0112-铜焊用化学品;0115-工业用塑料基黏合剂 - 1964
- 2025-12-20
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