【SEG】商标详情
- SEG
- 54677662
- 已注册
- 普通商标
- 2021-03-26
0101 , 0102 , 0104 , 0110 0101-半导体用硅,
0102-酒精,
0104-刹车液,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-汽油净化添加剂,
0104-汽车燃料化学添加剂,
0104-汽车车身修补用膏状填充物,
0104-防污剂,
0110-灭火合成物
0101-半导体用硅;0102-酒精;0104-刹车液;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-汽油净化添加剂;0104-汽车燃料化学添加剂;0104-汽车车身修补用膏状填充物;0104-防污剂;0110-灭火合成物 - 1767
- 2021-11-13
- 1779
- 2022-02-14
- 2022-02-14-2032-02-13
- 深圳市赛格集团有限公司
- 广东省深圳市************
- 深圳市精英商标事务所
2022-03-10 商标注册申请 | 注册证发文
2021-10-30 商标注册申请 | 等待驳回复审
2021-09-03 商标注册申请 | 驳回通知发文
2021-04-15 商标注册申请 | 受理通知书发文
2021-03-26 商标注册申请 | 申请收文
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- 54677662
- 已注册
- 普通商标
- 2021-03-26
0101 , 0102 , 0104 , 0110 0101-半导体用硅,
0102-酒精,
0104-刹车液,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-汽油净化添加剂,
0104-汽车燃料化学添加剂,
0104-汽车车身修补用膏状填充物,
0104-防污剂,
0110-灭火合成物
0101-半导体用硅;0102-酒精;0104-刹车液;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-汽油净化添加剂;0104-汽车燃料化学添加剂;0104-汽车车身修补用膏状填充物;0104-防污剂;0110-灭火合成物 - 1767
- 2021-11-13
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- 2022-02-14
- 2022-02-14-2032-02-13
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2022-03-10 商标注册申请 | 注册证发文
2021-10-30 商标注册申请 | 等待驳回复审
2021-09-03 商标注册申请 | 驳回通知发文
2021-04-15 商标注册申请 | 受理通知书发文
2021-03-26 商标注册申请 | 申请收文
