【EVATEC】商标详情
- EVATEC
- G1280637
- 待审中
- 普通商标
- 2018-04-05
0901 , 0910 , 0911 , 0913 0901-用于测量振荡器晶体层厚度的光学控制器和设备,科学仪器,即用于清洁电子元件表面的芯片载体清洁器,用于真空装置中待涂覆基板初步处理或用于涂层过程辅助的等离子清洁设备,
0901-电子调节、控制和监督设备和仪器,
0901-计算机程序,特别是用于表面调节、控制和监督及表面处理的,
0910-实验室设备和仪器,即薄层技术附件,特别是阴极溅射阴极、等离子源、阴极溅射靶、阴极溅射屏蔽板、阴极溅射掩模、真空镀金属丝、真空镀金属梭、陶瓷坩埚、基质物载 体和气体导入系统,
0910-测量设备和控制设备,即用于测量薄层处理装置中薄层增长或薄层去除的,
0910-用于测量振荡器晶体层厚度的光学控制器和设备,科学仪器,即用于清洁电子元件表面的芯片载体清洁器,用于真空装置中待涂覆基板初步处理或用于涂层过程辅助的等离子清洁设备,
0910-用于表面控制和表面处理的电子设备和仪器,
0910-电子调节、控制和监督设备和仪器,
0910-真空测量设备,
0911-用于测量振荡器晶体层厚度的光学控制器和设备,科学仪器,即用于清洁电子元件表面的芯片载体清洁器,用于真空装置中待涂覆基板初步处理或用于涂层过程辅助的等离子清洁设备,
0913-光学、电学、磁性、光谱传感器,
0913-实验室设备和仪器,即薄层技术附件,特别是阴极溅射阴极、等离子源、阴极溅射靶、阴极溅射屏蔽板、阴极溅射掩模、真空镀金属丝、真空镀金属梭、陶瓷坩埚、基质物载体和气体导入系统,
0913-用于测量涂层厚度的石英晶体,
0913-阴极溅射阴极
0901-用于测量振荡器晶体层厚度的光学控制器和设备,科学仪器,即用于清洁电子元件表面的芯片载体清洁器,用于真空装置中待涂覆基板初步处理或用于涂层过程辅助的等离子清洁设备;0901-电子调节、控制和监督设备和仪器;0901-计算机程序,特别是用于表面调节、控制和监督及表面处理的;0910-实验室设备和仪器,即薄层技术附件,特别是阴极溅射阴极、等离子源、阴极溅射靶、阴极溅射屏蔽板、阴极溅射掩模、真空镀金属丝、真空镀金属梭、陶瓷坩埚、基质物载体和气体导入系统;0910-测量设备和控制设备,即用于测量薄层处理装置中薄层增长 或薄层去除的;0910-用于测量振荡器晶体层厚度的光学控制器和设备,科学仪器,即用于清洁电子元件表面的芯片载体清洁器,用于真空装置中待涂覆基板初步处理或用于涂层过程辅助的等离子清洁设备;0910-用于表面控制和表面处理的电子设备和仪器;0910-电子调节、控制和监督设备和仪器;0910-真空测量设备;0911-用于测量振荡器晶体层厚度的光学控制器和设备,科学仪器,即用于清洁电子元件表面的芯片载体清洁器,用于真空装置中待涂覆基板初步处理或用于涂层过程辅助的等离子清洁设备;0913-光学、电学、磁性、光谱传感器;0913-实验室设备和仪器,即薄层技术附件,特别是阴极溅射阴极、等离子源、阴极溅射靶、阴极溅射屏蔽板、阴极溅射掩模、真空镀金属丝、真空镀金属梭、陶瓷坩埚、基质物载体和气体导入系统;0913-用于测量涂层厚度的石英晶体;0913-阴极溅射阴极 - 2015-05-22-2025-05-22
- Evatec AG
- 圣加仑州特吕巴赫************
2018-12-29 领土延伸 | 等待驳回电子发文
2018-12-29 领土延伸 | 驳回电子发文
2018-04-05 商标注册申请 | 申请收文
2018-04-05 领土延伸 | 申请收文
2017-09-18 国际变更 | 申请核准审核
2017-04-11 驳回复审 | 申请收文
2016-10-23 国际变更 | 申请收文
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- 2018-04-05
0901 , 0910 , 0911 , 0913 0901-用于测量振荡器晶体层厚度的光学控制器和设备,科学仪器,即用于清洁电子元件表面的芯片载体清洁器,用于真空装置中待涂覆基板初步处理或用于涂层过程辅助的等离子清洁设备,
0901-电子调节、控制和监督设备和仪器,
0901-计算机程序,特别是用于表面调节、控制和监督及表面处理的,
0910-实验室设备和仪器,即薄层技术附件,特别是阴极溅射阴极、等离子源、阴极溅射靶、阴极溅射屏蔽板、阴极溅射掩模、真空镀金属丝、真空镀金属梭、陶瓷坩埚、基质物载体和气体导入系统,
0910-测量设备和控制设备,即用于测量薄层处理装置中薄层增长或薄层去除的,
0910-用于测量振荡器晶体层厚度的光学控制器和设备,科学仪器 ,即用于清洁电子元件表面的芯片载体清洁器,用于真空装置中待涂覆基板初步处理或用于涂层过程辅助的等离子清洁设备,
0910-用于表面控制和表面处理的电子设备和仪器,
0910-电子调节、控制和监督设备和仪器,
0910-真空测量设备,
0911-用于测量振荡器晶体层厚度的光学控制器和设备,科学仪器,即用于清洁电子元件表面的芯片载体清洁器,用于真空装置中待涂覆基板初步处理或用于涂层过程辅助的等离子清洁设备,
0913-光学、电学、磁性、光谱传感器,
0913-实验室设备和仪器,即薄层技术附件,特别是阴极溅射阴极、等离子源、阴极溅射靶、阴极溅射屏蔽板、阴极溅射掩模、真空镀金属丝、真空镀金属梭、陶瓷坩埚、基质物载体和气体导入系统,
0913-用于测量涂层厚度的石英晶体,
0913-阴极溅射阴极
0901-用于测量振荡器晶体层厚度的光学控制器和设备,科学仪器,即用于清洁电子元件表面的芯片载体清洁器,用于真空装置中待涂覆基板初步处理或用于涂层过程辅助的等离子清洁设备;0901-电子调节、控制和监督设备和仪器;0901-计算机程序,特别是用于表面调节、控制和监督及表面处理的;0910-实验室设备和仪器,即薄层技术附件,特别是阴极溅射阴极、等离子源、阴极溅射靶、阴极溅射屏蔽板、阴极溅射掩模、真空镀金属丝、真空镀金属梭、陶瓷坩埚、基质物载体和气体导入系统;0910-测量设备和控制设备,即用于测量薄层处理装置中薄层增长或薄层去除的;0910-用于测量振荡器晶体层厚度的光学控制器和设备,科学仪器,即用于清洁电子元件表面的芯片载体清洁器,用于真空装置中待涂覆基板初步处理或用于涂层过程辅助 的等离子清洁设备;0910-用于表面控制和表面处理的电子设备和仪器;0910-电子调节、控制和监督设备和仪器;0910-真空测量设备;0911-用于测量振荡器晶体层厚度的光学控制器和设备,科学仪器,即用于清洁电子元件表面的芯片载体清洁器,用于真空装置中待涂覆基板初步处理或用于涂层过程辅助的等离子清洁设备;0913-光学、电学、磁性、光谱传感器;0913-实验室设备和仪器,即薄层技术附件,特别是阴极溅射阴极、等离子源、阴极溅射靶、阴极溅射屏蔽板、阴极溅射掩模、真空镀金属丝、真空镀金属梭、陶瓷坩埚、基质物载体和气体导入系统;0913-用于测量涂层厚度的石英晶体;0913-阴极溅射阴极 - 2015-05-22-2025-05-22
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2018-12-29 领土延伸 | 等待驳回电子发文
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2018-04-05 商标注册申请 | 申请收文
2018-04-05 领土延伸 | 申请收文
2017-09-18 国际变更 | 申请核准审核
2017-04-11 驳回复审 | 申请收文
2016-10-23 国际变更 | 申请收文