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【RENA】商标详情

【RENA】商标详情

RENA
  • RENA
  • G973990
  • 已注册
  • 普通商标
  • 第07类
  • 2008-10-14
  • 0717 , 0729 , 0744 , 0745 , 0752

  • 0717-机械，即不同基片的湿化学蚀刻和湿化学清洗、干燥和喷镀(即电镀和无电镀沉积)加工设备，尤其是半导体晶片、半导体芯片、医用移植物、光电晶片、光电池,

    0729-机械，即不同基片的湿化学蚀刻和湿化学清洗、干燥和喷镀(即电镀和无电镀沉积)加工设备，尤其是半导体晶片、半导体芯片、医用移植物、光电晶片、光电池,

    0729-湿化学处理的测量设备,

    0744-机械，即不同基片的湿化学蚀刻和湿化学清洗、干燥和喷镀(即电镀和无电镀沉积)加工设备，尤其是半导体晶片、半导体芯片、医用移植物、光电晶片、光电池,

    0745-机械，即不同基片的湿化学蚀刻和湿化学清洗、干燥和喷镀(即电镀和无电镀沉积)加工设备，尤其是半导体晶片、半导体芯片、医用移植物、光电晶片、光电池,

    0752-机械，即不同基片的湿化学蚀刻和湿化学清洗、干燥和喷镀(即电镀和无电镀沉积)加工设备，尤其是半导体晶片、半导体芯片、医用移植物、光电晶片、光电池

    0717-机械，即不同基片的湿化学蚀刻和湿化学清洗、干燥和喷镀(即电镀和无电镀沉积)加工设备，尤其是半导体晶片、半导体芯片、医用移植物、光电晶片、光电池;0729-机械，即不同基片的湿化学蚀刻和湿化学清洗、干燥和喷镀(即电镀和无电镀沉积)加工设备，尤其是半导体晶片、半导体芯片、医用移植物、光电晶片、光电池;0729-湿化学处理的测量设备;0744-机械，即不同基片的湿化学蚀刻和湿化学清洗、干燥和喷镀(即电镀和无电镀沉积)加工设备，尤其是半导体晶片、半导体芯片、医用移植物、光电晶片、光电池;0745-机械，即不同基片的湿化学蚀刻和湿化学清洗、干燥和喷镀(即电镀和无电镀沉积)加工设备，尤其是半导体晶片、半导体芯片、医用移植物、光电晶片、光电池;0752-机械，即不同基片的湿化学蚀刻和湿化学清洗、干燥和喷镀(即电镀和无电镀沉积)加工设备，尤其是半导体晶片、半导体芯片、医用移植物、光电晶片、光电池
  • 2017-12-07-2027-12-07
  • RENA GMBH
  • 黑森施塔塔伦多尔夫************

  • 2012-11-13 商标注册申请 | 开具注册证明完成

    2012-09-25 商标注册申请 | 出具商标注册证明中

    2012-09-25 商标注册申请 | 开具注册证明待审中

    2009-11-03 商标注册申请 | 国际变更中

    2009-07-21 商标注册申请 | 国际领土延伸完成

    2009-04-24 商标注册申请 | 国际更正中

    2008-10-14 商标注册申请 | 领土延伸中

    2008-10-14 领土延伸 | 申请收文

  • RENA
  • G973990
  • 已注册
  • 普通商标
  • 第07类
  • 2008-10-14
  • 0717 , 0729 , 0744 , 0745 , 0752

  • 0717-机械，即不同基片的湿化学蚀刻和湿化学清洗、干燥和喷镀(即电镀和无电镀沉积)加工设备，尤其是半导体晶片、半导体芯片、医用移植物、光电晶片、光电池,

    0729-机械，即不同基片的湿化学蚀刻和湿化学清洗、干燥和喷镀(即电镀和无电镀沉积)加工设备，尤其是半导体晶片、半导体芯片、医用移植物、光电晶片、光电池,

    0729-湿化学处理的测量设备,

    0744-机械，即不同基片的湿化学蚀刻和湿化学清洗、干燥和喷镀(即电镀和无电镀沉积)加工设备，尤其是半导体晶片、半导体芯片、医用移植物、光电晶片、光电池,

    0745-机械，即不同基片的湿化学蚀刻和湿化学清洗、干燥和喷镀(即电镀和无电镀沉积)加工设备，尤其是半导体晶片、半导体芯片、医用移植物、光电晶片、光电池,

    0752-机械，即不同基片的湿化学蚀刻和湿化学清洗、干燥和喷镀(即电镀和无电镀沉积)加工设备，尤其是半导体晶片、半导体芯片、医用移植物、光电晶片、光电池

    0717-机械，即不同基片的湿化学蚀刻和湿化学清洗、干燥和喷镀(即电镀和无电镀沉积)加工设备，尤其是半导体晶片、半导体芯片、医用移植物、光电晶片、光电池;0729-机械，即不同基片的湿化学蚀刻和湿化学清洗、干燥和喷镀(即电镀和无电镀沉积)加工设备，尤其是半导体晶片、半导体芯片、医用移植物、光电晶片、光电池;0729-湿化学处理的测量设备;0744-机械，即不同基片的湿化学蚀刻和湿化学清洗、干燥和喷镀(即电镀和无电镀沉积)加工设备，尤其是半导体晶片、半导体芯片、医用移植物、光电晶片、光电池;0745-机械，即不同基片的湿化学蚀刻和湿化学清洗、干燥和喷镀(即电镀和无电镀沉积)加工设备，尤其是半导体晶片、半导体芯片、医用移植物、光电晶片、光电池;0752-机械，即不同基片的湿化学蚀刻和湿化学清洗、干燥和喷镀(即电镀和无电镀沉积)加工设备，尤其是半导体晶片、半导体芯片、医用移植物、光电晶片、光电池
  • 2017-12-07-2027-12-07
  • RENA GMBH
  • 黑森施塔塔伦多尔夫************

  • 2012-11-13 商标注册申请 | 开具注册证明完成

    2012-09-25 商标注册申请 | 出具商标注册证明中

    2012-09-25 商标注册申请 | 开具注册证明待审中

    2009-11-03 商标注册申请 | 国际变更中

    2009-07-21 商标注册申请 | 国际领土延伸完成

    2009-04-24 商标注册申请 | 国际更正中

    2008-10-14 商标注册申请 | 领土延伸中

    2008-10-14 领土延伸 | 申请收文

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