
【RENA】商标详情

- RENA
- G1079897
- 已销亡
- 普通商标
- 2011-07-02
0717 , 0734 , 0744 , 0752 0717-用于湿化学蚀刻和不同低层的清洁、干燥、表面涂层以及电镀流程的机械(尤其是电镀和无电镀电镀),尤其是用于半导体晶片,半导体芯片,医用移植物,光电晶片以及光电池,
0734-运输机械,
0744-用于湿化学蚀刻和不同低层的清洁、干燥、表面涂层以及电镀流程的机械(尤其是电镀和无电镀电镀),尤其是用于半导体晶片,半导体芯片,医用移植物,光电晶片以及光电池,
0752-用于湿化学蚀刻和不同低层的清洁、干燥、表面涂层以及电镀流程的机械(尤其是电镀和无电镀电镀),尤其是用于半导体晶片,半导体芯片,医用移植物,光电晶片以及光电池
0717-用于湿化学蚀刻和不同低层的清洁、干燥、表面涂层以及电镀流程的机械(尤其是电镀和无电镀电镀),尤其是用于半导体晶片,半导体芯片,医用移植物,光电晶片以及光电池;0734-运输机械;0744-用于湿化学蚀刻和不同低层的清洁、干燥、表面涂层以及电镀流程的机械(尤其是电镀和无电镀电镀),尤其是用于半导体晶片,半导体芯片,医用移植物,光电晶片以及光电池;0752-用于湿化学蚀刻和不同低层的清洁、干燥、表面涂层以及电镀流程的机械(尤其是电镀和无电镀电镀),尤其是用于半导体晶片,半导体芯片,医用移植物,光电晶片以及光电池 - 2011-04-14-2021-04-14