![【RENA】商标详情](https://img.alicdn.com/imgextra/i1/O1CN01WWwzkn1wFpngoFZM2_!!6000000006279-2-tps-42-42.png)
【RENA】商标详情
![RENA](https://tm-data.oss-cn-beijing.aliyuncs.com/tm_img/202135/4/G973990A.jpg?Expires=1739715612&OSSAccessKeyId=LTAI5tQpTc5yUcd6GBnvtpGj&Signature=T6LVbDoxvnfEHZ3MNgamnnspYYo%3D)
- RENA
- G973990A
- 已注册
- 普通商标
- 2008-10-14
0717 , 0729 , 0734 , 0744 , 0745 , 0752 0717-机械,即不同基片的湿化学蚀刻和湿化学清洗、干燥和喷镀(即电镀和无电镀沉积)加工设备,尤其是半导体晶片、半导体芯片、医用移植物、光电晶片、光电池,
0729-机械,即不同基片的湿化学蚀刻和湿化学清洗、干燥和喷镀(即电镀和无电镀沉积)加工设备,尤其是半导体晶片、半导体芯片、医用移植物、光电晶片、光电池,
0729-湿化学处理的测量设备,
0729-湿化学处理的自动输送设备,
0734-湿化学处理的自动输送设备,
0744-机械,即不同基片的湿化学蚀刻和湿化学清洗、干燥和喷镀(即电镀和无电镀沉积)加工设备,尤其是半导体晶片、半导体芯片、医用移植物、光电晶片、光电池,
0745-机械,即不同基片的湿化学蚀刻和湿化学清洗、干燥和喷镀(即电镀和无电镀沉积)加工设备,尤其是半导体晶片、半导体芯片、医用移植物、光电晶片、光电池,
0752-机械,即不同基片的湿化学蚀刻和湿化学清洗、干燥和喷镀(即电镀和无电镀沉积)加工设备,尤其是半导体晶片、半导体芯片、医用移植物、光电晶片、光电池
0717-机械,即不同基片的湿化学蚀刻和湿化学清洗、干燥和喷镀(即电镀和无电镀沉积)加工设备,尤其是半导体晶片、半导体芯片、医用移植物、光电晶片、光电池;0729-机械,即不同基片的湿化学蚀刻和湿化学清洗、干燥和喷镀(即电镀和无电镀沉积)加工设备,尤其是半导体晶片、半导体芯片、医用移植物、光电晶片、光电池;0729-湿化学处理的测量设备;0729-湿化学处理的自动输送设备;0734-湿化学处理的自动输送设备;0744-机械,即不同基片的湿化学蚀刻和湿化学清洗、干燥和喷镀(即电镀和无电镀沉积)加工设备,尤其是半导体晶片、半导体芯片、医用移植物、光电晶片、光电池;0745-机械,即不同基片的湿化学蚀刻和湿化学清洗、干燥和喷镀(即电镀和无电镀沉积)加工设备,尤其是半导体晶片、半导体芯片、医用移植物、光电晶片、光电池;0752-机械,即不同基片的湿化学蚀刻和湿化 学清洗、干燥和喷镀(即电镀和无电镀沉积)加工设备,尤其是半导体晶片、半导体芯片、医用移植物、光电晶片、光电池 - 2017-12-07-2027-12-07
- RENA Technologies GmbH
- 上奥地利州佩滕巴赫************
- 国际局
2023-09-20 国际转让 | 终局通知发文
2021-09-26 国际转让 | 无效通知发文
2021-09-26 国际转让 | 等待无效通知发文
2020-08-28 国际转让 | 等待补正通知发文
2020-08-28 国际转让 | 补正通知发文
2020-07-26 国际转让 | 申请收文
2018-05-04 国际续展 | 申请核准审核
2018-01-07 国际续展 | 申请收文
2013-11-12 国际变更 | 申请核准审核
2012-11-13 出具商标注册证明 | 打印注册证明
2012-09-25 出具商标注册证明 | 申请收文
2009-12-22 国际变更 | 申请核准审核
2009-10-13 国际更正 | 申请核准审核
2008-10-14 商标注册申请 | 申请收文
2008-10-14 领土延伸 | 申请收文
- RENA
- G973990A
- 已注册
- 普通商标
- 2008-10-14
0717 , 0729 , 0734 , 0744 , 0745 , 0752 0717-机械,即不同基片的湿化学蚀刻和湿化学清洗、干燥和喷镀(即电镀和无电镀沉积)加工设备,尤其是半导体晶片、半导体芯片、医用移植物、光电晶片、光电池,
0729-机械,即不同基片的湿化学蚀刻和湿化学清洗、干燥和喷镀(即电镀和无电镀沉积)加工设备,尤其是半导体晶片、半导体芯片、医用移植物、光电晶片、光电池,
0729-湿化学处理的测量设备,
0729-湿化学处理的自动输送设备,
0734-湿化学处理的自动输送设备,
0744-机械,即不同基片的湿化学蚀刻和湿化学清洗、干燥和喷镀(即电镀和无电镀沉积)加工设备,尤其是半导体晶片、半 导体芯片、医用移植物、光电晶片、光电池,
0745-机械,即不同基片的湿化学蚀刻和湿化学清洗、干燥和喷镀(即电镀和无电镀沉积)加工设备,尤其是半导体晶片、半导体芯片、医用移植物、光电晶片、光电池,
0752-机械,即不同基片的湿化学蚀刻和湿化学清洗、干燥和喷镀(即电镀和无电镀沉积)加工设备,尤其是半导体晶片、半导体芯片、医用移植物、光电晶片、光电池
0717-机械,即不同基片的湿化学蚀刻和湿化学清洗、干燥和喷镀(即电镀和无电镀沉积)加工设备,尤其是半导体晶片、半导体芯片、医用移植物、光电晶片、光电池;0729-机械,即不同基片的湿化学蚀刻和湿化学清洗、干燥和喷镀(即电镀和无电镀沉积)加工设备,尤其是半导体晶片、半导体芯片、医用移植物、光电晶片、光电池;0729-湿化学处理的测量设备;0729-湿化学处理的自动输送设备;0734-湿化学处理的自动输送设备;0744-机械,即不同基片的湿化学蚀刻和湿化学清洗、干燥和喷镀(即电镀和无电镀沉积)加工设备,尤其是半导体晶片、半导体芯片、医用移植物、光电晶片、光电池;0745-机械,即不同基片的湿化学蚀刻和湿化学清洗、干燥和喷镀(即电镀和无电镀沉积)加工设备,尤其是半导体晶片、半导体芯片、医用移植物、光电晶片、光电池;0752-机械,即不同基片的湿化学蚀刻和湿化学清洗、干燥和喷镀(即电镀和无电镀沉积)加工设备,尤其是半导体晶片、半导体芯片、医用移植物、光电晶片、光电池 - 2017-12-07-2027-12-07
- RENA Technologies GmbH
- 上奥地利州佩滕巴赫************
- 国际局
2023-09-20 国际转让 | 终局通知发文
2021-09-26 国际转让 | 无效通知发文
2021-09-26 国际转让 | 等待无效通知发文
2020-08-28 国际转让 | 等待补正通知发文
2020-08-28 国际转让 | 补正通知发文
2020-07-26 国际转让 | 申请收文
2018-05-04 国际续展 | 申请核准审核
2018-01-07 国际续展 | 申请收文
2013-11-12 国际变更 | 申请核准审核
2012-11-13 出具商标注册证明 | 打印注册证明
2012-09-25 出具商标注册证明 | 申请收文
2009-12-22 国际变更 | 申请核准审核
2009-10-13 国际更正 | 申请核准审核
2008-10-14 商标注册申请 | 申请收文
2008-10-14 领土延伸 | 申请收文
![近期商标资讯](https://img.alicdn.com/imgextra/i4/O1CN01slM5u427FL94GtizP_!!6000000007767-2-tps-36-39.png)