【GTXSEMI】商标详情
- GTXSEMI
- 68268100
- 已注册
- 普通商标
- 2022-11-10
0101 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-工业硅,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路制造用化学氧化剂,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-生产印刷电路板用化学涂层
0101-半导体用硅;0101-工业硅;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半 导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路制造用化学氧化剂;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-生产印刷电路板用化学涂层 - 1827
- 2023-02-13
- 1839
- 2023-05-14
- 2023-05-14-2033-05-13
- 上海光通信有限公司
- 上海市上海市************
- 北京集佳知识产权代理有限公司
2023-06-07 商标注册申请 | 注册证发文
2022-12-06 商标注册申请 | 受理通知书发文
2022-12-06 商标注册申请 | 等待受理通知书发文
2022-11-10 商标注册申请 | 申请收文
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0101 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-工业硅,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路制造用化学氧化剂,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-生产印刷电路板用化学涂层
0101-半导体用硅;0101-工业硅;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路制造用化学氧化剂;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-生产印刷电路板用化学涂层 - 1827
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